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,曹立新伟,苏革,:本文采用水相合成方法制备了篊孔拥悴⒔辛薢壳层修饰,研究了壳层厚度对篊/篊痁,:、、蛈猇等测试方法对其进行了表征。实验结果表明,。分散性良好,,量子点的し⒎,证明赯:量子点的表面生长,形成了核壳结构的篊痁量子点。随着壳层增厚,量子点与铜离子发光中心相关的发射峰强度先增大后减小,当壳核比/时,发光强度达到最大。关键词:量子点:篊缓丝墙峁梗环⒐中图分类号:.文献标识码:—,,—矿琎:篊猻瑃篊甌琗,,..猻,#.篊“甌/。/.收稿日期:盒薅┤掌冢—基金项目:∮判阒星嗄昕蒲家奖励基金手钅作者简介:田昕,女,。.,簍痜琌·瓻·:.甿簈:篊籧痵籰甿簍畑畉
万方数据
验引言实级篊⒐釯生质的研究还比较少。对于其表面修№,芤菏欠峙尤耄颗募尤肓慷己芪⑿。半导体量子点是组成纳米块体材料和纳米器件的基本单元,广泛应用于显示器件【省⒐獾绲元件【省⒐獾绲鹘谄鱗与生物标记确矫妫着广泛的应用前景。量子点的尺寸很小,表面存在大量的悬键和缺陷。这些表面态通常作为猝灭中心,降低材料的发光效率。。核/壳结构就是以一种量子点为核。在其表面包覆生长另外一种同类材料的壳层,壳层可以部分减少或者消除表面态,达到提高发光效率的目的。早在年。瓾取远嗑哿姿嵫挝N榷剂制备了大小的孔拥悖谄浔砻沉积一层,,结果发现孔拥愕挠ü量子效率超过了%,并且其光稳定性提高了丁辍等陋..的核量子点表面包覆了多达愕腪壳,发现包覆壳层后量子点的吸收光谱和发射光谱都发生了红移,并且核越小,壳层越厚,红移的幅度越大。荧光量子效率从未包覆时的ヒピ加到包覆壳层以后的%~%.膊阄层时。荧光量子效率达到最大。年,等】制备了核/壳结构型的篗痁量子点,首次对掺杂型量子点进行了壳层修饰,而且核的基质和壳选用了同种材料,避免了核与壳由于晶格不能完全匹配而引入额外的非辐射复合中心,结果显示包覆遣愫螅汤胱拥姆⒐馇慷忍岣吡倍。年,等¨训采用绝缘材料訸:量子点进行包覆,发现随壳层厚度增加,离子的发光先逐渐增强再逐渐减弱。篊谴车穆坦庀允静牧希嵌杂谀擅饰的研究更少。本文采用水相合成法制备了量子点并对其表面进行了遣阈奘危芯苛壳层对篊孔拥惴⒐庑灾实挠跋臁原料硝酸锌喊滋旖蚴腥鸾特化学品有限公司,氯化铜骸⒘蚧钠篛⑽匏掖脊鹤蕴旖蚴泄愠苫试剂有限公司,慧匣甇%。以上试剂均为分析纯,使用前没有再进行提纯处理。篊孔拥愕闹票选择铜离子掺杂摩尔分数为ァA咳浓度为疞的硝酸锌溶液、浓度为疞的氯化铜溶液于三颈烧瓶中。加入的匣。再加入的去离子水,充分搅拌。用疞的溶液调节值至。通氮气除氧螅谖露任℃、中速搅拌的条件下,迅速加人已用氮气除过氧气的疞的硫化钠溶液,回流反应吹肸:水溶胶。不同壳层厚度的篊痁量子点的制备在制备得到的篊孔拥慊∩希鸩包覆上牵琙壳与说牧康谋确病#痭,,,,,,,,分别命名为样品一。