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方法的相场微弹性模型来模拟二维应变籊疭∧ぃ牡紫低车男翁龋⒘,为微电和光电设备提供应用,所以近十年来,,但是许多实验表明不加引导的自组装生长不能得到完美有序的量子点阵列。.为了提高量子点在尺寸和排列上的均匀性,实验上采用预图案化的策略来引导自组装过程”刹黄匠牡咨嫌Ρ淠さ形态失稳进而自组装生成表面纳米结构在理论然而目前为止,大多数研究对于非平面衬底都采用线性稳定分析或小倾角近似来预测临界失稳波长和最快增长模式,这对于进一步的非线性演化,比如最后的平衡表面形态或不同增长模式间的耦合作用,,考虑了化学能,弹性应变能以及薄膜与衬底、薄膜与真空间的界面能,利用相场微弹性模型模拟了弯曲衬底上应变外延膜的非线性形态失稳以及后续的量子点形成过程,预测了量子点的优选生成位置,∧P本文考虑真空中沉积在正弦弯曲衬底上的异质外延应变膜,,研究采用了基于刃序参量的自由能泛函,数值求解了时间相关的以及薄膜、,,量子点倾向于沉积在弯曲衬底的波谷处,波谷处是能量有利位置,、尺寸和位置,,异质外延薄膜,量子点,特征应变,弯曲衬底,自组装引言上图熘释庋佑Ρ浔∧ぃ彝淝牡紫低深圳奥意建筑工程设计有限公司,广东,,弹性应变能印/戏使ひ荡笱Щ鹣钅凸易匀豢蒲Щ鹣钅手——.,猰簒..
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