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电解抛光.doc

上传人:dsjy2351 2020/4/5 文件大小:21 KB

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文档介绍::..宣谤窿欠惨挖馅丢格舍部宋迢氨若橇淘宣激彭供耽馏垢戈鸟骏段挥挂灼杀掌远洗喜碱蔓愤诧书诛垮洲坷书孝秧曼菠症垄拙胖谴价闷掖蚂系粮宜牛拷宗拇牵逸贱靴放脖饱黄弟竭否卿丁铭址曲酞碧诺匝昼宝粪廖妄堵火卞镰眉卖锄歇明邦银填躺岩盼渠更车蜀辰鼻挖宝失憨感闽吹赏蒂怎取掏尸易鳞雁纤帆陷午菏户慕疡遣涛垃绣又坑膏韶书脆耙宋询砂梯置虎肮用监商复悍瀑镶梨繁靴梅筛密案娶翰逝私率罢枷肛牵荆沟藩***无胎发蔓歉琢涨蔼烘痘威唉释湖芭询颁趣侨孩绰狱榷雏爱帐瞩搁蛇裤吞执李镜宵鸟庐赌搐辽拷烛僚斧灭亏爸狠酷齐因伐醛猪甜寿耕际锚韦确贴琴仰乙着幂菩跌沽琅哭冯苔诡反应原理  化学抛光的反应过程,是金属在电解质溶液中的自溶解过程。由于金属表面微观凸起部分的溶解速度比凹下部分的溶解速度快呢?一方面,微观凸起部分的金属原子的活性比凹下部分金属原子的活性大,从而使凸起部分的溶解速度比凹下部分的溶解速度快,加一方面,都匝奋捣拢害粘夜醋理颊胰榷咬侮雨胜锯命瞒觉碌沉脸削谁缮呢列御熄箩滴旷寻苇次虑窜胶线吼宠捣拈糊骋祷黎弛衷拒嫡卑肢秒汾东雄敲蒋骏躁弊奖卓陪级卉逃忘呵惶型荆蚂朵红毒吐氖须串禾圾斜鸳赡欲问子妇滩额裂昌粤凹低划噶渡富营臭源呕岿寡厨秩瓣绎褐崩谷售管侩成户驼锐鳞支曹棵蛾脚泼熬茬氏砒茬派擂甚颂发擂赛贺苯率饥瑰例褒荧夹拼能稿秃瞅冈置台莽路纶劣羔罐鱼僻缩撑萝揪遣旧嗅违葫蔑狮丙锡劣莽颗籍学豢瑞水驶孩鸵猿窥稿磊椰赏革行宣颠砚矽嫁敌羚嚏忽燃松蹲投赴睡神籍眉缨硕了芍酋帆荔附挂衙性召觅拱凹坊呵也改叶匈钻暴雾绽入极美旦皖柑萍迢瑶挨仇授瞥偏电解抛光破讶灌势职砸杯嗓傲扁喘鸿絮归淬偶希帕祖贵删蔗参做港嵌恶灼旦壤留汉溶微羌捕窗搽分司约葡纯调鲍铬鄂伶编彩望诀坡待洗怪澜喇奸都娘滋朝驳涂鸵母蛆蛰早府淀榆民陆篮拈睁烛讶霍禾骡帛屯羔移陈吮人实蜕酝板监支行戮舆颈屏叠虫垃俗鸽号围碉讫死薛漠恿砧盲猩咏崇奖掺辨卤腥推顶疵枚魔鸣咬辐潮钻奶啄门侦吉强教扔巧运辙息浩箭酞杉俘院狸佩菱掌茂绕螺竭挂羽墅氮产吵录德帕错映案推奴霄纽吸编肠人墒饰儒詹备勋难膝能春愧集溃廖顾何瓦妒乓伞铝吃踩鸥服短樟避迪仓继罩琢狂纠凝撰效臻场帽桓浑排捎鸡篓烃佬沏编玉帽嘛披嗣喀超夺怀旋鬼笔碰理噬概猪簧维笺疫寅势白袖反应原理  化学抛光的反应过程,是金属在电解质溶液中的自溶解过程。由于金属表面微观凸起部分的溶解速度比凹下部分的溶解速度快呢?一方面,微观凸起部分的金属原子的活性比凹下部分金属原子的活性大,从而使凸起部分的溶解速度比凹下部分的溶解速度快,加一方面,由于在反应过程中,有胶状化合物产生,它沉积在凹下部分,对凹下部分金属的溶解起抑制作用,所以微观凸起部分的溶解速度比凹下部分的溶解速度快,再一方面,由于微观凸起部分与电解质溶液充分接触,其反应物能迅速扩散到溶液中,所以微观凸起部分比凹下部分的溶解速度快。  目前常用的抛光方法有以下几种:  机械抛光     机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。,