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碳钢在N甲基二乙醇胺介质中的电化学阻抗谱研究.pdf

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碳钢在N甲基二乙醇胺介质中的电化学阻抗谱研究.pdf

上传人:小泥巴 2014/4/22 文件大小:0 KB

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碳钢在N甲基二乙醇胺介质中的电化学阻抗谱研究.pdf

文档介绍

文档介绍:万方数据
N263A5210(1h111实验部分电化学仪器与试剂HSSEISMDEA)(HS)试剂,脱硫、、,为生产过程的腐蚀监控提供了理论分析mmA3()试剂,工业级;其他试剂均为分析纯;高D馊芤翰握瘴南譡分析实际贫胺液30(by摘要:关键词:OA患谆掖及,简称(HeatStable虺艸琀的生成HSSMDEA有着重要的意义.,简称以其对研究体系介质中的腐蚀行为浚疚挠τ肊法研究浓度、(SCE)自制;’~’)MDEA碳钢电极依次用’一’金相砂纸抛光,134年月1006-3471(2007)04-0387-,福建厦门;,未经预阴极活化处理的碳钢表面存在氧化膜,溶解氧促使它腐蚀速率增大,,,腐蚀反应的阴极过程表现为电化学反应和扩散传质混合控制,:,修订日期:Tel(86-592)2184358E-mail_rzhu@国家自然科学基金资助V0113No4;
万方数据
z。.星对2底液浓度对碳钢腐蚀性的影响电化学(I)V(v8scE)3后浸入溶液至腐蚀电位稳定时作EIS样品溶液注入三室电解池以/牧髁客ǜ叽縉:除氧或通压缩空气以饱浴控温±.在静态、,施加不同的直流电平畂;溶解氧对腐蚀性的影响30MDEAHSS分别通入压缩空气和高纯氮气,记录不经活化处理EIS()R未经阴极活化处理的电极表面覆盖着比较稳定的氧化物膜,溶解氧主要起阴极去极化剂作用,所以底液和D馊芤均表现为:溶液经通空气饱和后逜玫腞。值比经通氮气(B)除,但在含溶解氧的溶液中氧化物膜部分得以恢HSS饱和后逤舛ǖ腞。值均比通氮气除氧后(D)2和的底液中因氧化物膜的恢复使得腐蚀电位层一不含芤褐校銻。,对不含牡滓海赐糽a空气饱和的蔷ǖF鹾蟮倍;-m2去离子水冲洗,丙酮除油,,于一minEIS()中放置100150minEIS10即potential)EISocp和经阴极活化处理的碳钢电极中显示的knLIIl2电极经阴极活化后,其表面原有的氧化物膜被去蚀.(A)HSSHsS阴离子阻碍了氧化物膜的恢复形成使得腐蚀电位(B)图示出经阴极活化的碳钢电极在不含年l(a)lsS(b)EIS;activation