文档介绍：国家标准《电子工厂洁净 厂房设计规范》中强制性条文 GB50472-2008陈霖新中国电子工程设计院2009年07月1、电子工厂洁净厂房特点2、章节内容简介3、强制性条文等介绍4、结语1、,12〞~16〞,64GTFT第六代产品对化学污染物的严格要求大面积、大体量、组合式、多层洁净厂房投资大、能量消耗大电子工厂洁净厂房的特点:微粒控制十分严格、。高纯物质,包括高纯水、高纯气体高纯化学品的供应、输送。对微振控制十分严格、需制定切实可行的规定对防静电、电磁兼容等大体量、多层单向流洁净室,二层/三层布置数万m2。1、电子工厂洁净厂房特点1、电子工厂洁净厂房特点项目位置状况规格(㎜)洁净生产区面积(㎡)建筑高度芯片厂1大陆生产运行200(8")(12"/8")(12")(12")(8")(8")(8")(8")(8")(8")(8")(12")(12")(12")(8")(8")(8")、电子工厂洁净厂房特点项目位置状况规格(㎜)洁净生产区面积(㎡)建筑高度芯片厂18上海生产运行300(12")(12")(8")(8")(8")(8")150028芯片厂24浙江生产运行150(6")516019TFT-LCD/1北京生产运行5代,1100×**********.00TFT-LCD/2上海生产运行5代,1100×130022000+-LCD/3昆山试生产5代,1100×1300~-LCD/4深圳正在建设5代,1100×1300~-LCD/5台湾生产运行6代,1500×1800~36000~27TFT-LCD/6上海正筹建6代,1500×1800~34000~27TFT-LCD/7北京正筹建6代,1500×1800~36000~27TFT-LCD/8日本生产运行8代,2160×2460~、电子工厂洁净厂房特点表22几类电子产品所需气体品种1、电子工厂洁净厂房特点表25集成电路芯片(64M)生产过程部分化学品的质量要求微粒()<40<30<20<20<20<20<20<10<10<10<-9<-9<-9<-9<-9HNO349%HF5%HF1%HF<30<30<30<30<20<20<20<20<-9<-9<-9<-91、电子工厂洁净厂房特点表128″大规模集成电路生产用高纯水质量指标(前工序)