文档介绍：第六章表面分析技术之光电子能谱仪XPS表面分析简介一、什么是表面及表面分析技术?表面:物体与周围环境(气体、液体、固体或真空)的边界,第四态。固体表面:是有一定厚度的,有时指表面的第一原子层,有时指上面几个原子层,有时厚度达到几个纳米的表面层。表面分析技术:通过微观粒子或(电、磁、力等)场与表面的相互作用而获取表面信息的技术。与超高真空、电子离子光学、微弱信号检测和计算机技术密不可分。二、表面分析包含内容?表面形貌分析:电子显微镜、离子显微镜、STM、AFM?表面组分分析:测定表面的元素组成、化学态及在表面层的横向与纵向分布?表面结构分析:测定表面原子排列,包括衬底表面原子及其上吸附单层原子的相对位置,LEED、STM、LEISS、ARPES、XPD、AP-FIM三、各种表面分析技术特征比较四、什么是光电子能谱仪XPS??光电子能谱仪:采用单色光源(如X射线、紫外光)或电子束照射样品表面,使样品中的原子或分子受到激发而发射电子,通过测量这些电子的能量分布,获得物质的结构组成等有关信息的一类分析方法。别名ESCA,全称为ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis五、XPS优点:①干扰小,定性分析标示性强;②直接得到电子能级结构的信息;③分析样品深度约~2nm,分析所需试样约10-8g,是一种高灵敏超痕量无损表面分析技术;X射线光电子谱XPS目录?XPS概述?XPS基本原理?初态效应和化学位移?终态效应及其伴峰?XPS价带谱?XPS构造?XPS应用一、XPS概述?XPS是用一束特征波长(能量hν)的X射线,激发材料中有关原子轨道的电子,被击出的电子成为光电子,光电子的动能(Ek)大小与具体元素及其轨道结合能(Eb)存在对应关系,三者满足Einstein光电发射定律:?E=hν-E