文档介绍：8-12英寸先进半导体工艺研发平台
环境影响评价报告书
可公开文本
建设单位:上海集成电路研发中心有限公司
环评单位:上海师范大学
2010年11月
说明
上海师范大学受上海集成电路研发中心有限公司委托开展对8-12英寸先进半导体工艺研发平台环境影响评价。现根据国家及本市法规及规定,并经上海集成电路研发中心有限公司同意向公众公开环评内容。
项目概况
⑴工程名称:8-12英寸先进半导体工艺研发平台
⑵建设单位:上海集成电路研发中心有限公司
⑶建设性质:新建项目
⑷项目内容:在原有芯片厂房内,已有中试线基础上,建设一个净化级别为1000-100级,面积约800-1000平方米的洁净室,同时配套部分工艺设备,形成一个8-12英寸、工艺能力可至90-65纳米的工艺研发平台。
⑸建设地点:张江高科技园区14街坊3丘(高斯路497号芯片厂房内)
所在地区域环境质量现状
⑴环境功能区划
根据上海市环境空气质量功能区划规定,项目所在区域为环境空气质量二类区。
根据上海市水环境功能区划规定,项目所在区域地面水环境为Ⅳ类功能区。
根据上海市噪声功能区划,项目所在区域声环境为2类功能区。
⑵环境现状质量评估
大气环境现状质量评估
根据大气现场监测数据来看,建设项目所在地的环境空气质量状况优良,达到《环境空气质量标准》(GB3095-1996)中的二类标准要求,各污染因子均有较大的环境容量。
声环境质量现状评价
根据噪声现场监测数据来看,本建设项目四周边界噪声达到了《声环境质量标准》(GB3096-2008)中的2类标准要求。
评价范围
本项目工艺主要为芯片制造工艺,产生的主要污染物为废水、废气、噪声和固体废物。因此项目的环境评价范围为:
⑴水环境影响评价工作等级
本项目生产废水主要为酸碱废水、含氟废水、CMP废水以及纯水生产排放水以及生活污水。以上各废水经废水处理系统处理达标后纳管排放至上海市白龙港污水处理厂。
因此,本项目不进行地表水环境影响评价,仅进行纳管排放的可行性分析。
⑵大气环境影响评价工作等级
从环境空气影响分析,本项目主要废气中污染物有H2SO4、NOx、氟化物、HCl、Cl2、非甲烷总烃、氨等。通过高度25米以上的排气筒达标排放。可见,废气有达标排放的治理措施,能实现达标排放。按《环境影响评价技术导则》,大气环境评价为三级评价。
⑶噪声环境影响评价工作等级
根据《上海市环境噪声标准适用区划》(沪环保控[2008]143号,2008年6月1日起实施)中相关规定,本项目所在的浦东新区张江高科技园区为声环境质量2类标准适用区,并且,项目建设前后评价范围内敏感目标噪声级增高量小
于3dB(A)。根据《环境影响评价技术导则·声环境》(HJ/-2009)本项目噪声环境影响评价工作等级为三级。
声环境评价范围选定为本项目范围内。
⑷风险评价等级
本项目使用的化学品主要有H2SO4、HF、HCl、Cl2、氨气等,根据HJ/T169-2006,这些物质均不在《建设项目环境风险评价技术导则》(HJ/T169-2004)附录一和《危险化学品重大危险源辨识》(GB 18218-2009)目录中,且项目所在区域为工业园区,属于非敏感区域,因此,评价等级确定为二级。
根据评价等级,环境风险评价范围为项目