文档介绍：导师签名:/乃∥分吮学位论文作者签名:碴首学位论文作者签名:彳芎签字日期:沙黬月独创性声明学位论文版权使用授权书签字日期:力辏辉拢签字日期:列辏辉翵日或撰写过的研究成果,也不包含为获得云洼王些太堂或其他教育机构的学位或本学位论文作者完全了解云洼王些太堂有关保留、使用学位论文的规定。特授权云洼王些太堂可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的研究成果,除了文中特别加以标注和致谢之处外,论文中不包含其他人已经发表证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示了谢意。检索,并采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编以供查阅和借阅。同意学校向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘。C艿难宦畚脑诮饷芎笫视帽臼谌ㄋ得
茼鯵帆删贩呲峨\学位论文的主要创新点光谱表明在浇泻芮康幕坡谭⑸浞澹酥饣寡芯苛一、通过二次阳极氧化法对硅基膜进行阳极氧化。研究电解液温度、硅基上蒸发镀膜的质量、氧化时间等因素对制备硅基模板的影响,来研究制备高度有序的硅基0宓淖罴逊从μ件,为疭0逶谄骷矫娴挠τ么蛳铝己玫幕二、以基D0澹捎玫缁С粱姆椒ǎ票竄/疭复合体系,并对其光电性能进行了研究,疉/复合结构的疉/复合体系的场发射性能,该结构的≡銮恳蜃觩值为,场增强因子较高,通过场发射性能的研究来探索模板在光电子器件方面的应用。三、电化学方法制备纳米材料时受到的影响因素较为复杂,本文主要研究了电解液浓度、沉积时间、六亚甲基四胺对形成擅紫结构的影响。研究发现,,在。乃∥露认拢暮愕缥下电沉积,为制备擅紫叩淖罴逊从μ跫
摘要荌甐灏氲继寤衔铮诔N孪碌慕矶任.,其激子束缚能为蚨寡趸吭谑椅露滩ǔし⒐夥矫婢哂杏欣跫谧贤馓测器、攘煊蚓哂兄匾5挠τ眉壑怠R晃琙纳米材料由于表面效应和量子尺寸效应等性质,使其在太阳能、传感器、压电材料等器件方面具有重要的应用。另外,作为半导体材料的具有良好的热传导性、较低的电阻率等特点在光电子集成方面有额外的优势。因此,本文将0遄R频絇型硅衬底上,并以疭8ㄖ0遄魑R跫ǎ捎玫缁С粱姆椒ㄔ趐型单晶硅载流子的电致发光。为探索复合结构新奇的物理和化学特性以及在纳米器件方本文以基D0澹捎玫缁С粱ㄖ票噶薢/疭母春结构。并且研究了电解液浓度、沉积时间、有无六亚甲基四胺对化学沉积体系制备复合结构时的影响。为进一步得到高度有序的擅紫咛峁┎慰迹玫ü訟/氧化条件的研究得出以较慢的蒸发速率用真空蒸镀的方法在上蒸镀一层约竦腁ぁH缓蠖缘缃庖航恒温,以草酸为电解液,缪瓜拢枚窝艏趸姆椒ㄖ票父叨扔行虻腟鵄模板,为制备高度有序的擅紫叽蛳铝己玫幕『吞跫許鵄为模板结合电化学沉积的方法制备疉/的复合5缃庵嗜芤海娴乃∥度下,.甋暮愕缥幌拢票竄纳米线。其急砻鱖纳米线直径约,长度为和拉曼光谱表明擅紫呔哂辛窍诵靠蠼峁埂光谱表明疉/复合结构在浇泻芮康幕坡谭⑸浞濉3》⑸测试结果表明,该结构的≡銮恳蜃觩值为,场增强因子很高,具有广泛的应用前景。訟/为辅助模板,,采用电化学沉积的方法在℃的水浴槽中沉积,研究电解液浓度和沉积时间对擅紫咝纬傻挠跋欤贸鲋聘鱖纳米线的最佳反应条件。谄渌粱跫肷鲜鱿嗤那榭鱿拢芯縄对沉积体系的影响。通过与无贸粱逑迪啾龋绯粱逑抵幸胍欢康牧渭谆陌泛蟮到结晶更为完整的澹纬闪嗽裼湃∠蚋玫腪纳米线阵列。关键词:基氧化铝模板;电化学沉积;氧化锌;场发射上生长一层蚙纳米线,。的结论如下:体系。以·和
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目录第一章绪论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.纳米材料简介⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..晃琙纳米材料的生长形态⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.》⑸⒎⒐⒌缁.》⑸⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯。.⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯。.璧缱酉晕⒕⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.干涞缱酉晕⒕⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.庵路⒐⒗馄⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯