文档介绍：本次培训的主要内容：
工艺人员的主要职责
简单介绍PECVD
PECVD的原理与作用
介绍两种PECVD所用的设备
生产过程中可能遇到的异常及处理方法
附件
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PECVD段工艺培训专业知识讲座
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工艺人员的主要职责
负责现场工艺运行的正常与稳定；
负责部门内工艺运行原始资料的累积，保管，随时检查工艺运
行状态，并记录异常，积极处理工艺异常。
负责应对设备常见、突出、重大的工艺异常，制定落实整改措
施、预防措施、应急方案。
对生产人员可能的不规范操作及时通知其予以纠正。
对现有生产技术进行必要的研究并提出改进建议。
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对PECVD的简单介绍
1、PECVD在电池生产工艺中所处的位置：
来料检验
制绒
扩散
刻蚀
PECVD
丝网印刷
烧结测试
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2、PECVD定义：
PECVD：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
的简称，即等离子体增强化学气相沉积。
与其他成膜方式如PVD、LPCVD相比，其优点有：
基本温度低、沉积速度快、成膜质量好、不易龟裂等。
对PECVD的简单介绍
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PECVD原理与作用
PECVD基本原理：借助微波或射频的能量，使反应气体（
NH3、SiH4）产生电离，在一定范围内形成等离子体，等离
子体反应后在硅片表面形成SiN膜。
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什么是等离子体？
等离子体是气体在一定条件下受到激发，发生电离，部分
外层电子脱离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合组
成的一种形态，这种形态称为等离子态，也称为第四态。
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1、减反射
利用光的干涉原理，通过调整膜厚与
折射率，使得R1和R2相消干涉，达到减
反射目的。
要达到此目的，对膜厚与折射率的
要求如下：
PECVD的作用
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2、钝化
Si材料中，存在较高的晶界、点缺陷（主要是指空位、填隙原
子、金属杂质、氧、氮以及它们的复合物等等），很容易在禁带中
形成深能级，成为复合中心。
而在镀膜过程中，表面在一段时间内处于富H的气氛，H离子与
杂质或是缺陷发生反应，将禁带中的能带转入价带或是导带，降低
复合，提高材料的少子寿命，起到钝化的作用。
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介绍两种PECVD设备
PECVD的分类：按照沉积腔室等离子源与样品的关系可分
为直接法与间接法。
PECVD
直接法（Direct）
间接法（Remote）
管式PECVD （Centrotherm，40KHz）
板式PECVD （Shimadzu）
微波法 （Roth&Rau，）
直流法 （OTB）
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直接法：
样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。直接法又可分
为管式PECVD和板式PECVD。
①管式PECVD:即使用像扩散炉管一样的石英管作为沉积腔室，使用电阻炉作为
加热体，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。如德国的
Centrotherm、中国的48所、七星华创产的设备。
②板式PECVD:是将硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，放入一个金属的沉积
腔室中，腔室中有平板型的电极，与样品支架形成一个放电回路，在两个极板之间的
交流电场的作用下气体电离，反应后在硅片表面形成SiN。这种设备目前主要是日本
岛津公司在生产。
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