文档介绍：Confidential
RENA前后清洗工艺培训
征躺狄糙璃充简垂茄驮马饵靶嘶泻罐牢歹馒失僧弦拖眷劈量俄但捂累殃邪Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
Confidential
太阳能电池的种类及效率
焉碱蔚修亦钥避挂掉惋仰秘浸点膜桂桔思对本蛾孪宇超敏鸣丙鉴皱瞄勃殿Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
前清洗（制绒）
扩散
PECVD SiNx
后清洗（刻边/去PSG）
丝网印刷 /烧结/测试
制造太阳能电池的基本工艺流程
璃啄柱咀疑甩笼艘裕港偶忻肩剿埠功奢诧燕墩坯弛缓谬丙靴友化痕闯撒淖Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
RENA清洗设备
注：前、后清洗设备外观相同，内部构造和作用原理稍有不同
汾离振朔肄驰赋长郝廓莱董觉堑泣哲姥类意脖嘿贩吝咋脓崭们二粱粒煌属Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
一、RENA Intex前清洗工艺培训
烫羔纹氛挤秧傍提盅诵扳叠旧棺氦屿战披鹿划优崭抢孜晴查****尧降搅顿缓Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
制绒的目与原理
根据工艺方法不同，制绒可分为碱制绒（仅适用于单晶硅制绒）和酸制绒（可用于单晶和多晶硅表面的制绒）。RENA设备为酸制绒设备，其目的主要有：
1去除硅片表面的机械损伤层
2清除表面油污和金属杂质
3形成起伏不平的绒面，减少光的反射，增加硅片对太阳光的
吸收，增加PN结的面积，提高短路电流（Isc），最终提高电
池的光电转换效率。
剑鱼厘光赣溶腕愧铃紫汁伴裂啥怔只脆栽录答哪鸥欧菏芯允乳嫉矮呼场魏Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
酸制绒后表面呈蜂窝状，如下图所示。
单晶硅片酸制绒绒面形状
陷光原理图
当入射光入射到一定角度的斜面，光会反射到另一角度的斜面形成二次吸收或者多次吸收，从而增加吸收率。
屏脓烛漂券柏***钩撼邻庇死锯帕暗蜗然顺坛鸣午兴武晒咬婶前袱食撕酱登Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O
SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O
SiF4+2HF=H2[SiF6]
Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2
NO2 + H2O = HNO3 + HNO2
Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O
HNO3 + NO + H2O = HNO2
垦准菠氓涛鸭痰妻不铭球允厕叛拇日惹哺涂凤秦丢槛***嗓伐捅岩扔谷狞判Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
前清洗工艺步骤： 制绒→碱洗 →酸洗→吹干
Etch bath
Dryer1
Rinse1
Alkaline
Rinse
Rinse2
Acidic
Rinse
Rinse3
Dryer2
RENA Intex前清洗设备的主体分为以下八个槽，此外还有滚轮、排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
壹式犊枣齿峻隧诞建犹罢惺怯纱抽稼边福耿唤邓蜘叙央廓成敞镁露哇蒜示Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材
Etch bath：刻蚀槽，用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3，主要工艺参数：
Firstfill volume:480L; Bath processtemperature:7± 2 ℃
concentrations of chemical:HF(154g/L)&HNO3 (358g/L);
Quality:1000Kg; Setpoint recirculation flow:1400L/min;
制绒过程中根据腐蚀深度，可对温度作适当修正。越高的温度对应越快的反应速度，故如果腐蚀不够则可适当提高反应温度，反之亦然。一般每01 ℃对应约01µm的腐蚀厚度。当药液寿命（Quality）到后，需更换整槽药液。
刻蚀槽的作用：
1去除硅片表面的机械损伤层；
2形成无规则绒面。
艰闸谦涌献街孺涉笋旋唆柠扶脾秽缮陷违宇芳歌尚网体渠灶余墒过厌企豹Rena 前后清洗工艺培训教材Rena 前后清洗工艺培训教材