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晶闸管的结构以及工作原理.doc

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晶闸管的结构以及工作原理.doc

文档介绍

文档介绍:一、晶闸管的基本结构
晶闸管(SemiconductorControlled Rectifier简称SCR)是一种四层结构(PNPN)的大功率半导体器件,它同时又被称作可控整流器或可控硅元件。它有三个引出电极,即阳极(A)、阴极(K)和门极(G)。其符号表示法和器件剖面图如图1所示。
图1 符号表示法和器件剖面图
普通晶闸管是在N型硅片中双向扩散P型杂质(铝或硼),形成结构,然后在的大部分区域扩散N型杂质(磷或锑)形成阴极,同时在上引出门极,在区域形成欧姆接触作为阳极。
图2、晶闸管载流子分布
二、晶闸管的伏安特性
晶闸管导通与关断两个状态是由阳极电压、阳极电流和门极电流共同决定的。通常用伏安特性曲线来描述它们之间的关系,如图3所示。
图3 晶闸管的伏安特性曲线
当晶闸管加正向电压时,和正偏,反偏,外加电压几乎全部降落在结上,结起到阻断电流的作用。随着的增大,只要,通过阳极电流都很小,因而称此区域为正向阻断状态。当增大超过以后,阳极电流突然增大,特性曲线过负阻过程瞬间变到低电压、大电流状态。晶闸管流过由负载决定的通态电流,器件压降为1V左右,特性曲线CD段对应的状态称为导通状态。通常将及其所对应的称之为正向转折电压和转折电流。晶闸管导通后能自身维持同态,从通态转换到断态,通常是不用门极信号而是由外部电路控制,即只有当电流小到称为维持电流的某一临界值以下,器件才能被关断。
当晶闸管处于断态()时,如果使得门极相对于阴极为正,给门极通以电流,那么晶闸管将在较低的电压下转折导通。转折电压以及转折电流都是的函数,越大,越小。如图3所示,晶闸管一旦导通后,即使去除门极信号,器件仍然然导通。
当晶闸管的阳极相对于阴极为负,只要,很小,且与基本无关。但反向电压很大时(
),通过晶闸管的反向漏电流急剧增大,表现出晶闸管击穿,因此称为反向转折电压和转折电流。
三、晶闸管的静态特性
晶闸管共有3个PN结,特性曲线可划分为(0~1)阻断区、(1~2)转折区、(2~3)负阻区及(3~4)导通区。如图5所示。
(一)正向工作区
1、正向阻断区(0~1)区域
当AK之间加正向电压时,和结承受正向电压,而结承受反向电压,外加电压几乎全部落在结身上。反偏结起到阻断电流的作用,这时晶闸管是不导通。
2、雪崩区(1~2也称转折区)
当外加电压上升接近结的雪崩击穿电压时,反偏结空间电荷区宽度扩展的同时,内电场也大大增强,从而引起倍增效应加强。于是,通过结的电流突然增大,并使得流过器件的电流也增大。此时,通过结的电流,由原来的反向电流转变为主要由
和结注入的载流子经过基区衰减而在结空间电荷区倍增了的电流,这就是电压增加,电流急剧增加的雪崩区。因此区域发生特性曲线转折,故称转折区。
3、负载区(2~3)
当外加电压大于转折电压时候,结空间电荷区雪崩倍增所产生大量的电子—空穴对,受到反向电场的抽取作用,电子进入区,空穴进入区,由于不能很快的复合,所以造成结两侧附近发生载流子积累:空穴在区、电子在区,补偿离化杂质电荷,使得空间电荷区变窄。由此使得区电位升高、区电位下降,起了抵消外电场作用。随着结上外加电压下降,雪崩倍增效效应也随之减弱。另一方面和结的正向电压却有所增强,注入增加,造成通过结的电流增大,于是出现了电流增加电压减小的负阻现象。
4、低阻通态区(3~4)
如上所述,倍增效应使得结两侧形成电子和空穴的积累,造成结反偏电压减小;同时又使得和结注入增强,电路增大,因而结两侧继续有电荷积累,结电压不断下降。当电压下降到雪崩倍增停止以后,结电压全部被抵销后,结两侧仍有空穴和电子积累,结变为正偏。此时、和结全部正偏,器件可以通过大电流,因为处于低阻通态区。完全导通时,其伏安特性曲线与整流元件相似。
(二)反向工作区(0~5)
器件工作在反向时候,和结反偏,由于重掺杂的结击穿电压很低,结承受了几乎全部的外加电压。器件伏安特性就为反偏二极管的伏安特性曲线。因此,PNPN晶闸管存在反向阻断区,而当电压增大到结击穿电压以上,由于雪崩倍增效应,电流急剧增大,此时晶闸管被击穿。
图4 晶闸管的门极电流对电流—电压特性曲线的影响
四、晶闸管的特性方程
一个PNPN四层结构的两端器件,可以看成电流放大系数分别为和的和晶体管,其中结为共用集电结,如图6所示。当器件加正向电压时。正偏结注入空穴经过区的输运,到达集电极结()空穴电流为;而正偏的结注入电子,经过区的输运到达结的电流为。由于结处于反向,通过结的电流还包括自身的反向饱和电流。
由图6可知,通过结的电流为上述三者之和,即
(1)

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