文档介绍:ICS
ICS
上 海 市
DB31
方 标 准
DB31/374—2006
半导体行业污染物排放标准
The discharge standards of pollutants for semiconductor industiy
(发布稿)
2007-02-01 实施
2006-X X-X X发布
ICS
ICS
上海市环境保护局君希 上海市质量技术监督局友布
DB31/374—2006
DB31/374—2006
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I
目次
前言 II
1范围 1
2规范性引用文件 1
3术语和定义 1
4技术内容 2
5监测 5
6标准的实施与监督 9
DB31/374—2006
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II
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为贯彻《中华人民共和国坏境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国人气污 染防治法》、《中华人民共和国海洋坏境保护法》,加强半导体企业污染物的排放控制,保障人体健康, 维护生态平衡,结合上海市实际情况,制定本标准。
本标准主要有以卞特点:1)适用于半导体企业水污染物、人气污染物排放的管理;2)水污染物排 放根据功能区执行分级标准:3)人气污染物排放不根据功能区进行分级:4)对现有半导体企业规定达 到挥发性有机物(VOC:)排放标准的时限,对其余污染源不再按建设时间规定排放限值。
半导体企业的噪声控制、固体废物控制按国家和本市的有关规定执行。
本标准实施之口起,半导体企业水污染物排放按本标准执行,不再执行DB31/199-1997《污水综合 排放标准》;半导体企业人气污染物排放按本标准执行,不再执行GB16297-1996《人气污染物综合排 放标准》。
本标准为首次发布。
本标准由上海市坏境保护局提出并归I Io
本标准由上海市坏境科学研究院和上海市集成电路行业协会负责起草。
本标准由上海市人民政府2006年10月13 口批准。
本标准由上海市坏境保护局负责解释。
DB31/374—2006
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半导体行业污染物排放标准
1范围
本标准规定了半导体企业的水污染物和人气污染物排放标准值。
本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、犬气污染物排放管理,以及半导体企业建设项目环
境影响评价、建设项目坏境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。
2规范性引用文件
卜列标准和本标准表5、表6所列分析方法标准及规范所含的条款通过本标准的引用而成为本标准的 条款,与本标准同效。
GB 3095
环境空气质量标准
GB 3097
海水水质标准
GB 3838
地表水坏境质量标准
GB/T 12997
水质采样方案设计技术规定
GB/T 12998
水质采样技术指导
GB/T 12999
水质采样样品的保存和管理技术规范
GB 13271
锅炉犬气污染物排放标准
GB/T 16157
固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法
GB 16297
大气污染物综合排放标准
HJ/T 91
地表水和污水监测技术规范
HJ/T 92
水污染物排放总量监测技术规范
当上述标准和规范被修订时,应使用其最新版本。
3术语和定义
卜列术语和定义适用于本标准:
3. 1 半导体企业 semiconductor industry
指从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。
DB31/374—2006
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3. 2 特殊保护水域 special protected v/ater area
指经国家或上海市人民政府批准的自然保护区范闱内水域:GB3838中II类水域;由本市各区、县 人民政府规定的居民集中式生活饮用水取水I I卫生防护带水域。
3. 3 废气处理设施 exhaust gas control devices
指处理废气的湿式洗涤塔、焚烧塔、吸收塔、冷凝塔或其他设备,但不包括工艺中设备自带的预处 理设备。
3. 4 密闭排气系统 closed vent system
指可将设备或设备组件排岀或逃逸的空气污染物捕集并输送至废气污染防治设备,使传送的气体不
直接与人气接触的系统。
5 现有污染源和新污染源 exist ing pol lutuion source and new pol lut ion source
现有污染源指2007年2月1 口前建设的半导体企业。
新污染源指2007年2月1 口起建设(包括改、扩建)的半导