文档介绍：Y 95453t 磷捩代码:102酶赫号:043025065 援纵孚硪士学位论文博溅学饿) 半导裱活道置厂效率改善莽煮分祈院专链系: 监: 名: 辫耀学院王穗管理?题窿筮一~ 穗等数攥: 黄嚣牮教授完成礴期:?兰垒殳鳓屡翅罄 043025065 顾青松半导体后道工厂效串改善体系分析摘要本文主要以半导体后道制造业生产设备的效率改善为研究课题。半导体行业加工工艺复杂、产品更新换代快速、设备的投资巨大、市场竞争激烈,如何借鉴国外的先进管理经验,有效地改善半导体工厂的制造效率对中国同行具有深远的意义。本文以英飞凌科技无锡公司为研究对象,通过对制造流程的认识/建立/优化/信息化/运作、全面的质量控制体系/过程控N/零缺陷管理、人才的招聘/培养/ 发展、信息化的系统的逐步实施与优化,改善了英飞凌无锡的制造效率并提高了工厂经济效益。在关注流程管理、质量控制、人力资源和信息化系统五年之后,英飞凌无锡工厂已经获得了较大的成功:整体制造效率从2001年的55%上升到2005年的 80%,处于半导体业界的领先水平。无锡工厂也因为其出色的表现,成为英飞凌集团的重点投资工厂,先进的生产线正不断转移到无锡工厂。本文的研究对于其它半导体公司具有借鉴意义。关键词:流程管理质量管理整体效率改善零缺陷信息化 043025065 顾青松半导体后道工厂效率改善体系分析 Abstract This Thesis focuses on Semiconductor Manufacturing equipment efficiency plex of manufacturing processes,rapid changing market,huge capital investment petitive semi—market,OEE(overall equipment efficiency)improvement isthekey ess factorforsemi- advanced management skillsofOEE enhancement will be helpful for domestic . The thesis based on analyze of Infmeon Technologies(Wuxi)plant’s investigation:manufacturing processes know how|establish|optimization/electronic data processing/proper operation,total quality management/process prehensive Zero Defect Quality system,talent recruiting|building and career information system implementation fourmajor items improved OEE a lotinthepast years as well asplant EBIT improvements. After 5yearsoffocusing onprocess/quality/human resource and ITapplications, Infineon Wuxi get alotofbenefitsfrom theapproach:the OEE improved from 55% to80%(near thebenchmark oftheindustry).the FAB was selected tobethefirst choice ofInfineonTechnologies new investments willbe useful forothersemiconductor FABs in China. Key words:Process management Productivityimprovement Qualitymanagement OEE Zero Defect InformationTechnology l引言 20世纪以来,电子技术产品更新日新月异;电子计算机几乎在社会的每个方面迅速起着作用,促进资源的有效利用。而从电子技术引起的变化广度来看,这场革命刚刚开始。半导体产业已经成为这场技术革命的中心。半导体,作为主要材料,是电子产品的要素:增