文档介绍：工艺简介太阳能电池生产工艺一般分为: 扩散前清洗、扩散、扩散后清洗、刻蚀、 PECVD , 丝网印刷,烧结,分类检测和封装。扩散前清洗的目的在于制绒,就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过强酸和强碱腐蚀, 使其凸凹不平, 变得粗糙, 形成漫反射, 减少直射到硅片表面的太阳能的损失。相关设备有无锡瑞宝, 德国 RENA , 深圳捷佳创, 这些设备中最好的是 RENA , 因为他不光卖设备, 还卖制绒工艺的专利。所使用的介质有 HF , HCL , HNO3 , NaOH , Na2SiO3 和乙醇等。动力源有自来水, 纯水, 压缩空气, 氮气, 工艺冷却水, 废水, 热排风和酸排风。扩散的目的在于形成 PN 结。硅片含硼,是 P 型结物质,需要往里面掺杂磷,使电子发生移动,形成 PN 结空穴。所使用的介质有 POCL3 , N2 , O2 。动力源有压缩空气, 氮气, 工艺冷却水, 热排风和有机排风。使用的设备是高温扩散炉, 厂商有 SVCS , TEMPRESS , 长沙 48 所等。该道工艺有洁净要求, 需要在洁净室内运行。因为扩散炉内的石英管需要清洗,所以需要增加一种石英管清洗机。扩散后清洗的目的在于洗去扩散时形成的磷硅玻璃,即 SiO2 和 P2O5 的混合物,所以扩散后清洗机又叫做去磷硅玻璃清洗机。动力源有氮气, 压缩空气, 纯水, HF , 热排风, 酸排风, 废水等。设备有深圳捷佳创。刻蚀的目的在于把硅片的边缘 PN 结断开, 防止短路。目前国内所使用的设备几乎都是长沙 48 所的。动力源有 CF4 , N2 , NH3 , 热排风, 有机排风。 PECVD 的目的在于镀氮化硅薄膜, 增加折射率,同时掺杂 H 元素,使缺陷减少,还可以保护硅片。所用设备有德国的 ROTH&RAW 平板式 PECVD 设备,还有 CENTROTHERMO 的管式 PECVD 设备。动力源有 SiH4 , NH3 , 氮气, 压缩空气, 工艺冷却水, 热排风, 硅烷排风等。丝网印刷的目的在于印刷导电电极。先印背面, 再印正面。目前国内大多数厂家使用设备是意大利的 IN I 印刷线。动力源有真空, 压缩空气, 热排风, 有机排风等。烧结的目的是把电极烧结在 PN 结上。高温烧结可以使电极穿透氮化硅膜, 形成合金。所用设备有美国 DESPACH 等。动力源有压缩空气,工艺冷却水,热排风,有机排风等。分类检测的目的在于把电池片按照效率进行分类。目前国内大多数厂家使用设备是意大利的 INI 检测仪。动力源有真空, 压缩空气。最后一道工艺就是热塑包装。二、厂房建设经验总结一条年产量 25MW 的生产线,设备占地至少需要 1100 平方米,而国内厂商一般很少有只计划一条线的公司,所以太阳能电池生产车间净面积都在 2000 平方米以上。按照 16 小时甚至 24 小时生产来计算, 工艺人员不下于百人, 所以相应的办公室, 更衣间, 食堂, 宿舍, 卫生间等设施都不能太小。外线动力站(制冷,供热,纯水,空压,真空,空调,工艺冷却水,消防,变配电,自控, 通讯等)房总面积不小于 2000 平方米。厂房和动力站房有钢筋混凝土框架结构,多层建筑的,也有钢结构加金属复合板单层建筑的,但布置工艺和动力设备的楼层,因管线众多,层高都较大,至少是 7 米。以下经验总结均以 50MW 生产线为