文档介绍：
么一方面因磨痕过深增加下一道磨制的困难，另一方面因外表变形紧要影响组织真实性。
5)砂纸的砂粒变钝磨削作用明显下降时，不宜接着运用，否那么砂粒在金属外表产生的滚压会增加外表变形。
6)磨制铜、铝及其合金等软材料时，用力更要轻，可同时在砂纸上滴些煤油，以防脱落砂粒嵌入金属外表。
〔2〕机械磨
目前普遍运用的机械磨设备是预磨机。电动机带动铺着水砂纸的圆盘转动，磨制时，将试样沿盘的径素来回移动，用力要匀称，边磨边用水冲。水流既起到冷却试样的作用，又可以借助离心力将脱落砂粒、磨屑等不断地冲到转盘边缘。机械磨的磨削速度比手工磨制快得多，但平整度不够好，外表变形层也比拟紧要。因此要求较高的或材质较软的试样应当采纳手工磨制。
抛光的目的是去除细磨后遗留在磨面上的微小磨痕，得到光亮无痕的镜面。抛光的方法有机械抛光、电解抛光和化学抛光三种，其中最常用的是机械抛光。机械抛光在抛光机上进展，将抛光织物(粗抛常用帆布，精抛常用毛呢)用水浸湿、铺平、绷紧并固定在抛光盘上。启动开关使抛光盘逆时针转动，将适量的抛光液(氧化铝、氧化铬或氧化铁抛光粉加水的悬浮液)滴洒在盘上即可进展抛光，抛光时应留意：
1)试样沿盘的径憧憬返缓慢移动，同时逆抛光盘转向自转，待抛光快完毕时作短时定位轻抛。
2)在抛光过程中，要经常滴加适量的抛光液或清水，以保持抛光盘的湿度，如发觉抛光盘过脏或带有粗大颗粒时，必需将其冲刷干净后再接着运用。
3)抛光时间应尽量缩短，不行过长，为满意这一要求可分粗抛和精抛两步进展。
4}抛有色金属(如铜、铝及其合金等)时，最好在抛光盘上涂少许肥皂或滴加适量的肥皂水。
机械抛光与细磨本质上都是借助磨料尖角锋利的刃部，切去试样外表隆起的局部。抛光时，抛光织物纤维带动稀疏分布的极微细的磨料颗粒产生磨削作用，将试样抛光。
目前，人造金刚石研磨膏( W15 W25 )代替抛光液，正得到日益广泛的应用。用极少的研磨膏匀称涂在抛光织物上进展抛光，抛光速度快，质量也好。
抛光后的试样在金相显微镜下视察，只能看到光亮的磨面，假如有划痕、水迹或材料中的非金属夹杂物、石墨以及裂纹等也可以看出来，但是要分析金相, 组织还必需进展浸蚀。
浸蚀的方法有多种，最常用的是化学浸蚀法，利用浸蚀剂对试样的化学溶解和电化学浸蚀作用将组织显露出来。
纯金属(或单相匀称固溶体)的浸蚀根本上为化学溶解过程。位于晶界处的原子和晶粒内部原子相比，自由能较高，稳定性较差，故易受浸蚀形成凹沟。晶粒内部被浸蚀程度较轻，大体上仍保持原抛光平面。在明场下视察，可以看到一个个晶粒被晶界(黑色网络)隔开。如图1-19b所示。如浸蚀较深，还可以发觉各个晶粒明暗程度不同的现象，如图1-19d所示。这是因为每个晶粒原子排列的位向不同，浸蚀后，以最密排面为主的外露面与原抛光面之间倾斜程度不同的原因。
两相合金的浸蚀与单相合金不同，它主要是一个电化学浸没过程，在一样的浸蚀条件下，具有较高负电位的相(微电池阳极)被快速溶解凹陷下去；具有较高正电位的相(微电池阴极)在正常电化学作用下不被浸蚀，保持原有的光滑平面。结果产生了两相之间的高度差。 以共析碳钢层状珠光体浸蚀为例，层状珠光体是铁素体与渗碳体相间隔的层状组织浸蚀