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表面与界面结构对器件性能的影响.docx

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表面与界面结构对器件性能的影响.docx

文档介绍

文档介绍:表面与界面结构对器件性能的影响(ITO)
摘要
利用高锰酸钾溶液对有机电致发光器件的阳极ITO玻璃表面进行处理的方法, 改善器件的性能。我们把经过预处理后的ITO玻璃薄片浸泡在不同浓度的高锰 酸钾溶液中,%〜0被注入了 02 一离子,这个改变降低了 ITO表面 载流子的浓度,.从而降低了 ITO的导电性[s].如果面电阻被大幅度地提高,可 能与rro膜层厚度的降低有很大关系,例如用低浓度王水处理的ITO玻璃在ITO 膜层厚度降低的同时,面电阻也被大幅度地提高了 [01],如果需要降低其面电阻, 高温退火处理将是一个很好的办法,但它同时会将己经提高了的功函数还原到未 处理前。
ITO的表面处理不仅改变表面形态,也将会引起表面化学成分的变化等,从而 导致表面功函的改变。表面处理将改变ITO膜表面的Sn、In、O浓度,而对ITO 功函数有作用的主要是Sn和O的浓度,,氧空位的减少和Sn4十掺杂原子的减少 都将降低施主浓度,使功函数增加。文献11采用氧等离子体、氧辉光放电及臭氧 环境紫外线处理等处理
ITO表面时,间隙氧扩散进ITO中与Sn形成不活泼的复 合物,减少了导带中的电子数量,使中rro增加。WuCC等人【通过实验得到氧等 离子体处理使sn浓度减小,氧浓度增加的结果,并用这一结果解释了氧等离子体 处理使中二增加的原因。LeQT等人】研究了酸、碱处理对ITO表面功函数的影 响。从其实验数据来看,酸处理使ITO表面的sn浓度减小,氧浓度增加,中二增加, 而碱处理则与酸处理相反[5]。sugiyamaK等人[6j通过uv 一臭氧及Ne 一溅射处 理比较了表面处理对ITO表面中◎的影响程度,结果发现影响作用大小的次序为: 氧浓度、Sn浓度及表面有机污物的去除程度。
尽管ITO玻璃目前己经商业化,但是采用商业ITO玻璃不经处理所制备的有机 电致发光器件性能较差。对现有的商业ITO玻璃上进行一定的处理可以有效地提 高器件性能,所以更多的研究者在寻求新的处理方法改善ITO表面的特性来提高 有机电致发光器件的性能。
ITO薄膜表面的特性主要包括功函数(workfunetion)、粗糙度(RMS)、表面有 机污染物含量、面电阻(sheetresistanee)和透明度。而这些特性对OLEDs的性 能产生了不同的影响[l7 — 23],例如发光亮度一电压曲线、发光亮度一电流曲线 等。因此可以通过不同的处理方法来改变IT0的表面特性,从而改善OLEDs的性 能。目前对ITO的处理方法主要分为物理和化学两种方法:物理方法主要是等离 子处理,包括O:和Ai,UV-ozone,氧辉光放电(02GD劝和抛光处理等;化学方法主 要包括酸碱处理、氧化剂处理以及在汀0表面增加其它化合物浏等。
我们经过大量的试验,提出了用高锰酸钾(氧化剂)水溶液处理ITO玻璃表面, 得到了很好的结果。实验中将ITO玻璃片浸泡在不同浓度下的高锰酸钾溶液中, 进行不同时间的超声,并优化实验条件,经过处理后的ITO玻璃片和没有处理的 ITO玻璃片在同一条件下进行有机电致发光器件的制备,发现经过高锰酸钾处理 的样片和对比样片相比,器件的亮度和效率都有提高。
我们把经过正常的前期处理后的ITO玻璃片浸泡在不同浓度的高锰酸钾溶液 中,%