文档介绍：光学式触控面板及其制造方法以及光学式触控显示面板的制作方法
专利名称：光学式触控面板及其制造方法以及光学式触控显示面板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种触控面板，尤其涉及一种光学式触控面板及光学式触控显示面板。
背景技术：
将线。于第一介电层上形成通道层，其中通道层位于栅极上方。于基板上形成第二图案化导电层，第二图案化导电层包括至少一源极与至少一漏极，分另Ij位于通道层的两侧，且电性连接通道层。于红外光滤光层上形成透明电极，电性连接源极与漏极其中之一。于基板上形成第二介电层，覆盖第二图案化导电层以及部分透明电极。于透明电极上形成红外光感测层。于基板上形成图案化遮光导电层，包括感测电极与遮光电极，感测电极配置于红外光感测层上，遮光电极配置于第二介电层上，且对准通道层。提供第二基板，使第二基板与第一基板相对设置，且第二基板面向第一基板的内表面。于第一基板与第二基板之间形成显示介质层。基于上述，本发明的光学式触控面板与光学式触控显示面板具有较佳的穿透率与触控灵敏度。其中，于光学式触控面板与光学式触控显示面板的制造方法中，遮光电极是与感测电极一起制作，因此可具有较简易的工艺与较低的制作成本。此外，由于遮光电极对准通道层，因此能避免通道层受到光照射等影响，以提升通道层的稳定性。故，光学式触控面板与光学式触控显示面板具有较佳的元件特性。为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。
图IA至图II为本发明第一实施例的光学式触控面板的制造方法的剖面示意图。图2A至图21为本发明第二实施例的光学式触控面板的制造方法的剖面示意图。图3A与图3D是本发明第三实施例的光学式触控显示面板的制造方法的剖面示意图。其中，附图标记说明如下10 :光学式触控显示面板
100 :光学式触控面板110、200:基板IlOa:内表面IlOb:外表面120:第一图案化导电层130:第二图案化导电层140:图案化遮光导电层142:遮光电极300 :显示介质层BLU :背光源CH :通道层DE:漏极El:感测电极 F :手指GE :栅极GI :第一介电层IRF :红外光滤光层IRS :红外光感测层L、L，光线0C:欧姆接触层OCP :欧姆接触图案PVl :第二介电层PV2 :保护层S :光感测元件SE :源极Tl:信号读出晶体管T2 :主动元件TE:透明电极Wl:开口
具体实施方式
第一实施例图IA至图II为本发明第一实施例的光学式触控面板的制造方法的剖面示意图。请参照图1A，首先，提供基板110，其中基板110具有内表面IlOa与外表面110b，其中外表面IlOb面向使用者。接着，于基板110的内表面IlOa上形成红外光滤光层IRF。在本实施例中，红外光滤光层IRF的材质例如是包括锗化合物或锗硅化合物。请参照图1B，然后，于基板110上形成第一图案化导电层120，第一图案化导电层120包括至少一栅极GE以及至少一条与栅极GE连接的扫描线(未标示)，其中栅极GE与扫描线位于基板110的内表面IlOa上。第一图案化导电层120的材质例如是导电良好的金属或金属叠层。请参照图1C，接着，于基板110上形成第一介电层GI，以覆盖栅极GE与扫描线SL。在本实施例中，第一介电层GI例如是还覆盖红外光滤光层IRF。第一介电层GI的材质可以是高介