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张缯稳同期:矽阩鹿谕学位论文作者:纵甥辏耲同期:原创性声明学位论文使用授权声明本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指导下,独立进行研究所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体己经发表或撰写过的科研成果。对本文的研究作出重要贡献的个人和集体,均己在文中以明确方式标明。本声明的法律责任由本人承担。学位论文作者:本人在导师指导下完成的论文及相关的职务作品,知识产权归属郑州大学。根据郑州大学有关保留、使用学位论文的规定,同意学校保留或向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借阅;本人授权郑州大学可以将本学位论文的全部或部分编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或者其他复制手段保存论文和汇编本学位论文。本人离校后发表、使用学位论文或与该学位论文直接相关的学术论文或成果时,第一署名单位仍然为郑州大学。保密论文在解密后应遵守此规定。
近年来,氧化银&由于在光存储和磁光存储方面的潜在应用受到了越来越多的关注。其在光存储和磁光存储的应用主要是基于它的热分解效应。目前由于双相的薄膜的热分解的临界温度偏高℃庖殉晌F未来产业化应用的瓶颈。制备单相薄膜降低热分解临界温度鼻研究的热点。基于此,本文利用直流磁控溅射技术ü谋涑粱问反应气压和溅射功率票窤薄膜,摸索制备单相薄膜的工艺参数。采用传统的真空环境下热处理技术,研究单相薄膜的热分解过程及其值。在整个的研究过程中主要利用扫描电子显微镜,湎哐苌浜头止夤舛燃蒲究了沉积参数和热处理温度对和单相薄膜的结构、表面形貌和光学性质的影响。取得的主要研究结果如下:孀欧从ζ徒ι涔β姆直鹪黾樱珹薄膜的相结构均呈现了从两相到单相再到两相结构的演变。∧ぁ4而有效降低了薄膜的。该创新性结果对解决薄膜在新型光盘和磁光盘的应用难题指明了方向。薄膜的光学性质随着和变化可归结于薄膜相结构的演变和薄膜厚度的增加。孀臩脑黾樱珹敝∧,表明。∧さ墓庋Т对∧ぞ苷婵栈肪诚碌娜却砗螅∧け砻嫘蚊裁飨猿上至舜又旅到疏松多孔的结构演变。这与热处理过程中发生的热分解反应和。在薄膜内部的扩散和从薄膜表面逃逸有关。热处理后,薄膜的相结构发生了明显的变化。当热处理温度为媸保珹∧ぶ谐鱿至松倭康腁欢℃时相完全转化为。关键词:磁控溅射,氧化银薄膜,热稳定性,微结构,光学性质和为。
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目录绪论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯粱问訟∧の⒔峁购凸庋灾实挠跋臁摘要⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯目录⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯薄膜的制备与表征方法⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.ハ郃∧と任榷ㄐ缘难芯俊。∧さ闹票浮∧さ谋碚鳌反应气压对薄膜微结构的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.溅射功率对薄膜微结构的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.反应气压对薄膜光学性质的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.溅射功率对薄膜光学性质的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..小结⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.~理~~泵一蓉~原~容~解~内一分~究一热~膜景薄状的背银现文究化究论研氧研本..................⋯..................................................................................~研~的~要一主■,,觥鰈
个人简历与发表论文⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..致谢⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯
绪论研究背景随着人类进入信息社会,信息技术已成为促进社会进步和发展的关键技术。特别是随着因特网和数字时代的到来,光存储技术在信息社会中发挥着越来越重要的作用。因此,信息技术的发展需要开发更高存储密度的光存储系统。其中。光存储和磁光存储特别是短波方向的光存储和磁光存储因其在提高存储密度方面的特有优势而成为最前沿的存储技术。近年来,由于近场光学存储在超高密度信息存储方面有着很大的发展潜力及应用前景,而受到了越来越多的关注。这种近场光存储技术与超分辨近场光技术碨密不可分,它是上世纪九十年代在日本和美国先后发展起来的。该技术通过产生近场光,可突破分辨极限,减小光点尺寸,从而使超高密度大容量存储成为可能。从上世纪九十年代以来,氧化银捎谠诠獯⒋婧痛殴獯⒋娣矫婢有明显的应用前景,受到了越来越多的注意。在年发展起来的超分辨近场结构中,已经采用热分解产生的纳米颗粒和产生的表面等离子体来同时获得