文档介绍：第卷第期影像科学与光化学Ⅵ. .
年月.,
一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的
制备及光刻性能研究
谢文,刘建
华中科技大学化学与化工学院,湖北武汉
摘要:本文合成了一一羧基苯基甲基丙烯酰胺单体,并将其与一苯基马来

——.将此共聚物作为成膜树脂,与感光剂、溶剂等复配得

:%一% 成膜树脂,.%一% 感光剂和
%一%溶剂;最佳光刻工艺为:匀胶,前烘,感
度为—/,在.% 溶液显影和后烘℃.
关键词:紫外正型光刻胶;光刻
文章编号:———中图分类号: 文献标识码:
年世界诞生第一片集成电路标志着电子技术的发展开始进入微电子技术时代.
半个世纪以来,微电子技术已经取得了惊人的进步,它的广泛使用也给生活和生产带来
了极大的变革⋯.本世纪是微电子技术与产业持续发展的新世纪,微电子产业作为一项
基础产业对于促进国民经济的持续发展具有重要的地位.
光刻胶是微电子制造光刻工艺的关键基础材料之一,它由成膜树脂、感光剂、溶剂和
,它对光刻胶性能有决定性的
影响.
目前线性酚醛树脂类聚合物被广泛用作、—、甚至—正型光刻胶的成
膜树脂,但是线性酚醛树脂的玻璃化温度较低随分子量的不同,在—℃之
问,,如多层抗蚀
剂系统、离子注入技术等,要求抗蚀剂图形在℃甚至更高的温度下不变形;对于化学
增幅抗蚀剂,具有高玻璃化温度的树脂可降低光刻中烘时催化剂质子的迁移,有助
收稿日期:——;修回日期:——.
基金项目:广东省科技攻关资助项目.
作者简介:李平一,女,教授,研究方向:化学与环境工程,通讯联系人,:.
第期谢文等:一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究
,
于提高抗蚀剂的分辨率.
为了提高成膜树脂的,早在年,等制备了一系列烯烃与一取代的
马来酰亚胺衍生物的交替共聚物作为光刻胶的成膜树脂,等也合成了含硅的树
脂体系,这些成膜树脂的≥一℃,最高甚至可达℃,其中比较典型的两种树脂的
结构如下工和Ⅱ:
厂——丁—
。
, \\

一些作者研究了这些聚合物中酰亚胺类单体的合成方法和合成机理,探讨了它

紫外正性光致抗蚀剂成膜树脂,可以克服以酚醛树脂为成膜树脂的重氮萘醌型紫外正性
光致抗蚀剂的耐热性差的不足之处,满足现代加工工艺如多层抗蚀剂系统和离子注入
技术对光致抗蚀剂的耐热性要求,但其分解温度较低约℃¨.
本文制备了一种新的成膜树脂——,
将其作为紫外光刻胶的成膜树脂,
类结构的树脂比上述树脂具有更高玻璃化温度丁和分解温度,但是其所能达到的线
宽,难以实现以下的光刻,且该结构树脂存在大量羧基,抗碱溶性较差故本
文显影采用.% 四甲基氢氧化铵水溶液,而正性