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专利名称:气吸式水稻工厂化育秧盘播装置的制作方法
技术领域:
本发明涉及一种气吸式水稻工厂育秧盘播装置,用于水稻盘播工厂化育秧系统中将种子快速、均匀地散播在苗盘内,播种量、种子间距精确、可调,并实现了播种过程自动化,生产效率高。
技术背景目前,水稻播种主要有穴播、散播、条播等形式,但上述播种方式的播种机结构繁杂,播种量、种子间距不易控制,系统的自动化程度和工作效率均较低,劳动强度大。因此,特别需要研制一种播种量、种子间距精确控制、自动化程度高、播种速度快且能够适应水稻工厂化育秧要求的盘播播种装置,以实现播种量、种子间距精确控制,播种过程自动化。发明内容本发明的目的是为了克服现有水稻播种系统结构繁杂、种子分布不均匀、工作效率低等缺点,提供一种气吸式水稻工厂育秧盘播装置。包括真空播种吸头总成、吸头移动气动控制总成、苗盘机架输送总成、控制器,真空播种吸头总成具有吸头底板,播种吸头、振动器、真空管路、真空控制阀、负压风机,播种吸头下端设有吸头底板,播种吸头一侧设有振动器,播种吸头与真空控制阀、负压风机通过真空管路串联,吸头移动气动控制总成具有升降气缸、升降轨道、平移气缸、平移轨道、分离器、空气压縮机,平移
气缸、平移轨道固定在机架,平移气缸与升降气缸相连,升降气缸与播种吸头相连,升降气缸与播种吸头在平移气缸的作用下通过平移轨道在机架上整体水平运动,播种吸头在升降气缸的作用沿升降轨道垂直运动。所述的升降气缸、平移气缸采用气动控制。本发明能够实现水稻种子的盘式流水线播种,不仅播种量、种子间距可精确控制,种子可均匀分布于苗盘内,而且与水稻工厂化育秧系统相匹配,整机速度快,效率高。
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。图l是气吸式水稻工厂化育秧盘播装置的结构示意图;图2是气吸式水稻工厂化育秧盘播装置的播种吸头的纵向剖视图;图3是气吸式水稻工厂化育秧盘播装置的播种吸头移动气动控制原理图4是气吸式水稻工厂化育秧盘播装置的播种吸头真空气路图;图5是本发明的电器控制图;,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,,。
具体实施方式
如图l、2所示,气吸式水稻工厂育秧盘播装置包括真空播种吸头总成、吸
头移动气动控制总成、苗盘机架输送总成、控制器,真空播种吸头总成具有吸头底板l,播种吸头2、振动器3、真空管路7、真空控制阀IO、负压风机ll,播种吸头下端设有吸头底板,播种吸头一侧设有振动器,播种吸头与真空控制阀、负压风机通过真空管路串联,吸头移动气动控制总成具有升降气缸4、升降轨道21、平移气缸8、平移轨道5、分离器9、空气压縮机12,平移气缸、平移轨道固定在机架,平移气缸与升降气缸相连,升降气缸与播种吸头相连,升降气缸与播种吸头在平移气缸的作用下通过平移轨道在机架上整体水平运动,播种吸头在升降气缸的作用沿升降轨道垂直运动。所述的升降气缸4、平移气缸8釆用气动控制。苗盘机架输送总成由苗盘输送器及其机架组成,苗盘输送器15组装在机架19上,用于输送苗盘并依次经过覆料装置、淋水装置、播种吸头、填料装置下方。电器控制图如图5所示。控制器由可编程控制器(PLC)、红外光传感器组成,PLC根据传感器给出的信号由程序控制各电机及电磁阀完成播种过程。本发明的工作过程启动整机,负压风机11的电动机13工作,使真空控制阀10前端的真空管路7内产生真空;空气压縮机12产生压縮空气。控制器14控制分离器9接通三位二通阀II下降位置,升降气缸4工作,位于种盘17集种器18正上方的播种吸头2沿升降轨道4下降至集种器18上均匀分布的种子表面,控制器14使真空控制阀
10的处于真空位置,播种吸头5内就产生较大的真空度,种子被均匀地吸附在具有多孔结构的吸头底板6下方,然后接通分离器9的三位二通阀II25上升位置,升降气缸4工作,播种吸头2沿升降轨道21上升至上止点,然后分离器9的三位二通阀I23接通使平移气缸8工作,播种吸头2沿平移轨道5平移至己覆土的苗盘16正上方,然后升降气缸4工作,播种吸头2沿升降轨道21下降至与苗盘16接触,然后缓慢提升播种吸头2,此时真空控制阀10使真空管路7与大气相通,播种吸头2内的真空度迅速下降,同时播种吸头2—侧的振动器3振动,种子均匀地落到苗盘14内,完成一次盘播,然后播种吸头2迅速上升并平移至种盘17的集种器18正上方,再次下降至集种器18的种子表面吸取种子,如此循环工作,完成种子盘式播种。在整个工作过程中,控制器14控制真空控制阀、分离器9与振动器3,使升降气缸4、平移气缸8、真空控制器IO、振动器3协调工作。根据水稻播种所要求的播种量及种子间距要求制作不同孔数、不同行距与株距的吸头底板l,通过更换播种吸头2的吸头底板1实现播种量与种子间距的精确调节。本发明的工作原理是负压风机产生真空,通过真空控制阀控制真空管路内真空度,当真空管路内真空度达到吸种要求时,播种吸头下降至位于其正下方的集种器种子表面,种子被均匀地吸附在具有精确株距与行距的多孔吸头底板下方,然后播种吸头上升并平移至己覆土的苗盘上方,再下降播种吸头,当
吸头底板与苗盘接触后缓慢提升吸头,调节真空控制阀,播种吸头内的真空度下降,同时播种吸头一侧的振动器振动,种子落到苗盘内,完成一次播种。然后播种吸头迅速上升并平移至集种器上方,准备再次下降吸取种子。如此循环工作,完成种子盘式播种,并通过更换不同株距与行距的吸头底板实现播种量调节。在整个播种过程中,控制器控制真空控制阔、分离器与振动器,分离器控制升降气缸、平移气缸、分动箱气缸的移动方向,使播种吸头有规律地上下左右移动,播种吸头内的真空度按要求变化,并与振动器协调工作。
权利要求
,其特征在于包括真空播种吸头总成、吸头移动气动控制总成、苗盘机架输送总成、控制器,真空播种吸头总成具有吸头底板(1),播种吸头(2)、振动器(3)、真空管路(7)、真空控制阀(10)、负压风机(11),播种吸头下端设有吸头底板,播种吸头一侧设有振动器,播种吸头与真空控制阀、负压风机通过真空管路串联,吸头移动气动控制总成具有升降气缸(4)、升降轨道(21)、平移气缸(8)、平移轨道(5)、分离器(9)、空气压缩机(12),平移气缸、平移轨道固定在机架,平移气缸与升降气缸相连,升降气缸与播种吸头相连,升降气缸与播种吸头在平移气缸的作用下通过平移轨道在机架上整体水平运动,播种吸头在升降气缸的作用沿升降轨道垂直运动。
,其特征在于所述的升降气缸(4)、平移气缸(8)采用气动控制。
全文摘要
本发明公开了一种气吸式水稻工厂育秧盘播装置。它包括真空播种吸头总成、吸头移动气动控制总成、苗盘机架输送总成、控制器,真空播种吸头总成具有吸头底板,播种吸头、振动器、真空管路、真空控制阀、负压风机,播种吸头下端设有吸头底板,播种吸头一侧设有振动器,播种吸头与真空控制阀、负压风机通过真空管路串联,吸头移动气动控制总成具有升降气缸、升降轨道、平移气缸、平移轨道、分离器、空气压缩机,平移气缸、平移轨道固定在机架,平移气缸与升降气缸相连,升降气缸与播种吸头相连。本发明不仅播种量、种子间距可精确控制,种子可均匀分布于苗盘内,而且与水稻工厂化育秧系统相匹配,整机速度快,效率高。