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列上进行的,二次氧化的条件与一次氧化的条件基本相同,即在相同的电解质溶液、相同的电压、相同的温度下进行,只是氧化时间较长,二次氧化的时间通常是由所需的模板厚度来决定的。后续处理过程:①除去背面铝和去障碍层。(用可溶的惰性金属盐溶液与铝反应)②扩孔:用稀磷酸溶液去除致密的氧化铝阻挡层。合成过程:首先利用蒸镀法或溅射法在双通模板的一面制备一层厚度大约为200nm的金膜作为电沉积的工作电极。通过控制实验参数,使制备材料优先在电极上成核,并沿氧化铝模板通道的轴向择优生长。由于氧化铝模板中通道的限制作用,因而可以实现在模板中组装金属纳米线有序阵列。采用碱或酸的稀溶液适当腐蚀掉氧化铝膜,就可获得纳米线有序阵列。、电学特性和化学特性来阐述碳纳米管的性质,它有哪些主要的应用前景?力学特性:抗张强度高,:金属性。:①催化剂,或催化基板(提供反应场所)②具有很强的吸附储氢能力③可用作电极材料,太阳能电池,高容量燃料电池。应用前景:①绝好的纤维材料,既具有碳纤维的固有性质,又具有金属材料的导电导热性、陶瓷材料的耐热耐蚀性、纺织纤维的柔软可编性,以及高分子材料的易加工性,是一种一材多能和一材多用的功能材料和结构材料,将给汽车、飞机等飞行器的制造带来革命性的突破。②具有极高的强度和理想的弹性,具有非凡的韧性和恢复能力。③作为复合材料的纤维增强体,碳纳米管具有极好的强度、弹性、抗疲劳性及各向同性,同时兼具有石墨的润滑性和导电性,在航空、航天等特殊制造领域里有无可比拟的优势。在隐身材料领域,平面显示领域,微电子器件领域的探索。(只要结合性能加上应用领域即可)?瑞利定律:R=k1λ/NAD=k2λ/(NA)2其中,R为分辨率,D为焦深,λ为曝光波长,NA为数值孔径,由成像系统决定,k1和k2是与系统有关的常数。减小波长、增加数值孔径、减小k1等方式都可以提高光刻曝光系统的分辨率,其中减小波长是主要手段。。答:同:无须使用掩模板、波长更短、可以用电磁透镜聚焦的高能带电粒子束刻蚀异:离子质量大于电子质量;相同能量下,感光胶对离子的灵敏度要比对电子高数百倍;由于色差的影响,无法将离子束聚焦成电子束一样细,因而其分辨率比电子束曝光低;电子束刻蚀:优点:分辨力高;避开了光学透镜材料的限制;复杂的电路可直接写在硅片上而无须使用掩模板;具有灵活性;可直接制作各种图形。缺点:速度慢;无法适应大工业批量生产的需要;散射电子会影响邻近电路图形的曝光质量,邻近效应很难控制。离子束刻蚀:优点:易聚焦;在同样的能量下,感光胶对离子的灵敏度要比对电子高数百倍;缺点:其分辨率比电子束曝光低;曝光的应用范围有限。。同:①波长短,可获得极高的分辨率②光学曝光过程相同异:①曝光系统:极紫外光刻技术是反射式光学系统,X射线光刻技术是无投射光学系统的近贴式和1:1投影式。②掩模板:极紫外光刻技术:无需采用近邻效应校正技术和移相掩模技术,有利于降低光刻成本。X射线光刻技术:掩模的制作难度大,同时使用过程中的受热变形问题是X射线光刻技术需解决的难关。?用于制备纳米结构的微乳液体系一般有几个组成部分?答:自组装:纳米材料的自组装是在合适的物理、化学条件下,原子、分子、粒子和其他结构单元,通过氢键、范德瓦尔斯键、静电力等非共价键的相互作用、亲水-疏水相互作用,在系统能量最低性原理的驱动下,自发地形成具有纳米结构材料的过程。组成:表面活性剂、助表面活性剂、有机溶剂和水25何谓“取向搭接Orientedattachment”“奥斯德瓦尔德熟化Ostwaldripening”?取向搭接:纳米粒子在自组装过程中总是在不停地做无规的布朗运动,当相同晶面彼此靠近时,由于晶面上的原子排列和晶格间距相同,因此可以形成更多的化学键(配位数),从而大大降低体系的自由能。奥斯瓦尔德熟化(或奥氏熟化)是一种可在固溶体或液溶胶中观察到的现象,其描述了一种非均匀结构随时间流逝所发生的变化:溶质中的较小型的结晶或溶胶颗粒溶解并再次沉积到较大型的结晶或溶胶颗粒上。8