文档介绍：实验报告
《集成电路版图设计》
----------------双与非门版图设计
班级:
实验名称:
双输入与非门
指导教师:
姓名学号:
实验时间:

一、设计过程
1、进入linux系统,打开新建终端,进入cadence软件界面。
命令:开启证书文件:lmli 打开cadence:icfb& 打开calibre:clmli
建库,步骤如下图所示:File-New-Library,新库命名为nand,点击OK。
,点击OK,此时我们的库就建好了。
在所建的库里新建一个cellview。
新建cellview步骤:File-New-Cellview,。
绘制原理图:
图一电路原理图
2、生成版图:点击Launch—Layout XL就会弹出版图窗口版。
3、选择左下方第一个图标,将原理图中的元器件调入版图中
4、开始绘制版图,考虑匹配问题
图二版图的绘制
三、验证过程
下面进行drc验证,点击Rules选择Calibre下拉菜单中的calibre.--->drc,设置如下:
图三 DRC仿真
点击图三中的Run DRC,运行之后,得到结果如图:图中的四个错误是所用金属覆盖面积不够的问题,可以不必考虑。
图四 DRC验证结果
下面进行LVS验证,选择TSMC库文件中的LVS规则,参数设置如下:
图五 LVS验证
运行结果如下:右方出现两个可爱的笑脸,则说明验证通过。
图六 LVS验证结果
四、结论:
画出原理图之后,通过自动调用元器件,自动添加到版图设计的窗口中,并按照tsmc库的工艺要求进行连线,考虑到面积的大小,以及电路匹配的问题,选取最优的布局。
版图绘制完成之后,对版图进行DRC验证,通过DRC验证