文档介绍：实验报告《集成电路版图设计》---------------- 双与非门版图设计班级: 实验名称: 双输入与非门指导教师: 姓名学号: 实验时间: 一、设计过程 1 、进入 linux 系统,打开新建终端,进入 cadence 软件界面。命令:开启证书文件: lmli 打开 cadence : icfb& 打开 calibre : clmli A. 建库,步骤如下图所示: File-New-Library ,新库命名为 nand ,点击 OK 。 B. 选择的工艺库为我们新库的类型,点击 OK ,此时我们的库就建好了。 C. 在所建的库里新建一个 cellview 。新建 cellview 步骤: File-New-Cellview, 。绘制原理图: 图一电路原理图 2 、生成版图:点击 Launch — Layout XL 就会弹出版图窗口版。 3 、选择左下方第一个图标,将原理图中的元器件调入版图中 4 、开始绘制版图,考虑匹配问题图二版图的绘制三、验证过程下面进行 drc 验证,点击 Rules 选择 Calibre 下拉菜单中的 calibre.--->drc ,设置如下: 图三 DRC 仿真点击图三中的 Run DRC ,运行之后,得到结果如图:图中的四个错误是所用金属覆盖面积不够的问题,可以不必考虑。图四 DRC 验证结果下面进行 LVS 验证,选择 TSMC 库文件中的 LVS 规则,参数设置如下: 图五 LVS 验证运行结果如下:右方出现两个可爱的笑脸,则说明验证通过。图六 LVS 验证结果四、结论: 画出原理图之后,通过自动调用元器件,自动添加到版图设计的窗口中,并按照 tsm c 库的工艺要求进行连线,考虑到面积的大小,以及电路匹配的问题,选取最优的布局。版图绘制完成之后,对版图进行 DRC 验证,通过 DR