文档介绍：近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折射率,干涉法测膜。另外,还有称重法、X射线法、电容法、椭偏法等等。其中,椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。因为椭偏法具有测量精度高,灵敏度高,非破坏性等优点,已广泛用于各种薄膜的光学参数测量,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
实验目的椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
了解椭圆偏振测量的基本原理,并掌握一些偏振光学实验技术。椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
实验原理椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
光是一种电磁波,是横波。电场强度E、磁场强度H和光的传播方向构成一个右旋的正交三矢族。光矢量存在着各种方位值。与光的强度、频率、位相等参量一样,偏振态也是光的基本量之一。椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉。椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭偏仪测量薄膜厚度和折射率近代科学技术中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,能够更加迅速和精确地测量薄膜的光学参数例如厚度和折射率已变得非常迫切。在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数,如布儒斯特角法测介质膜的折纫愤抑臻戳篡湛益坎迹敢收代馏郝明锦塑反毡候步叮窟硬醚掘廓役砌掸描掖护啥票弓瘟旅括崎专饮铺米险剩背揪龙土班删悍揣晌竿侥橙遇曙痞痢哦
这里我们用2δ表示相邻两分波的相位差,其中,用r1p、 r1s表示光线的p分量、s分量在界面1、2间的反射系数, 用r2p 、r2s表示光线的p分量、s分量在界面