文档介绍：OLED技术知识整合你想知道的都在这
OLED屏幕颜色三种实现方案
下面提到的这种高端大气上档次的“蒸镀”法,主要应用于RGB三色排列的典型OLED屏幕。三星的诸多OLED电视产品都是基于这种方法蒸镀出来的,效果很不错,三原色都非常纯粹,但成本非常高昂。这类蒸镀所用的技术叫FMM,精细金属掩模板,就是蒸镀的时候为了区分像素,盖个掩膜,所以对齐的问题,以及掩膜材料本身都会成为技术难点。
实际上,人类为了控制成本,OLED电视不止上述一种,有一类蓝光+色变换层:这种方案只需要蒸镀蓝光OLED元件,经过变换层将光转为RGB三色,这类技术受到色彩转换器开发难度的限制,并未被大规模采用。
还有一类OLED电视是白光+三种彩色滤光片,原理上和LCD液晶面板有些类似,以白色为背光,再加彩色滤光片—这种方式在成本上显然就低了很多,LG就曾以这种方案生产OLED电视,白光OLED +彩色滤光片也一度被认为是OLED进一步实现低成本的方案。只不过加上滤光片,透光率光色纯度都更成问题,所以亮度、对比度、色彩、节能表现理论上都不及RGB OLED。
AMOLED平板显示研发过程和技术难点
AMOLED技术的开发主要涉及到TFT背板和OLED器件两个方面。在技术路线的选择上,目前国际上尚未统一,有多种技术方案在开发中。
发光器件即OLED的性能决定了AMOLED显示屏的色彩表现力、功耗等品质,因此OLED器件技术的开发对产品竞争力的提高具有非常重要的意义。 OLED器件制备技术主要有两个关键点,一个是开发高迁移率的传输材料和高效率、长寿命发光材料,另一个是开发新型器件结构,提高器件性能。因此,开发新型有机材料、设计新型器件结构和改进真空蒸镀技术将是研究的重点。
目前,TFT背板中的沟道层半导体材料主要有非晶硅(a-Si)、微晶硅(μ-Si)、低温多晶硅(LTPS)、单晶硅、有机物和氧化物等。由于 OLED是电流驱动型器件,需要稳定的电流来控制发光特性。为了达到足够的亮度,AMOLED需要TFT的沟道材料具有较高的迁移率,以提供较高的电流密度,因此目前普遍应用于TFT-LCD中的非晶硅TFT由于迁移率较低很难满足要求。另外,与TFT-LCD所不同的是,AMOLED需要TFT长时间处于开启状态,非晶硅TFT的阈值电压漂移问题也使其很难应用在AMOLED中。从技术发展现状来看,较有希望的是LTPS TFT和氧化物TFT等技术,但也存在很多难点。
目前,应用在AMOLED中最成熟的TFT背板技术是低温多晶硅(LTPS)技术。在LTPS技术中,最重要的工艺难点即为多晶硅沟道层的制备。工艺流程中首先使用PECVD等方法在不含碱离子的玻璃基板上淀积一层非晶硅,而后采用激光或者非激光的方式使非晶硅薄膜吸收能量,原子重新排列以形成多晶硅结构,从而减少缺陷并得到较高的电子迁移率。
对LTPS结晶化技术而言,激光结晶化技术尤其是准分子激光退火(ELA)技术目前在小尺寸应用方面已经较为成熟,全球已经量产的AMOLED产品基本都使用了ELA技术。ELA技术的难点在于TFT的一致性问题,各像素间TFT特性的不同导致OLED的发光强度出现不均匀,进而导致面板成品率无法保障,因此提高EL