文档介绍：山东科学第 25卷第 2期 2012年 4月出版
SHANDONGSCIENCE
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DOI:.1002-
镁合金表面制备硅掺杂类金刚石膜的性能研究
李庆刚1,罗庆丽2,王修春1,罗庆刚3
(,山东济南 250014;,山东济南 250022;
,山东济南 250022)
摘要:将无铬化学转化新工艺与射频等离子化学气相沉积(PECVD)技术相结合,先在镁合金表面生成一层多孔结构、附
着力高的化学转化膜作为过渡层,再采用 PECVD技术低温沉积一层硅掺杂类金刚石(SiDLC)薄膜复合涂层。扫描电子
显微镜和拉曼光谱图分析证实,获得的薄膜由 sp2 和 sp3 键杂化的碳硅氢化合物呈层状堆积而成,薄膜均匀、平整致密;
制备的薄膜为典型的类金刚石结构。原子力显微镜直观地观察到,掺杂硅的类金刚石薄膜比未掺杂的平整致密。当硅
含量达到 20%时,得到的 DLC薄膜最为平整致密,无铬化学转化膜层均被含硅的 DLC薄膜覆盖。性能测试实验表明,将
化学转化膜作为中间过渡层并采用 PECVD沉积含硅的 DLC薄膜明显提高了镁合金基体与其的结合强度,同时也大幅度
提高了镁合金的耐磨、耐高温和耐蚀性。
关键词:化学转化膜;射频等离子化学气相沉积;硅掺杂类金刚石;镁合金
中图分类号:TB34 文献标识码:A 文章编号:10024026(2012)02006705
Researchonthepropertiesofdiamondlikecarbonfilms
preparedonmagnesiumalloysubstrate
LIQinggang1,LUOQingli2,WANGXiuchun1,LUOQinggang3
(,ShandongAcademyofSciences,Jinan250014,China;,Shandong
LaborVocationandTechnicalCollege,Jinan250022,China;.,Jinan250022,China)
Abstract∶ Weemployedthenewtechnologyofchromiumfreechemicalconversionsurfacetreatmentandplasma
enhancedchemicalvapordeposition(PECVD)topreparediamondlikecarbon(DLC)

employedPECVDtechnologytoprepareDLCfilmswithSi