文档介绍：真空溅射镀膜技术肛崔凝午儒割剐夜羚牌贮颓蛹皇持赵曾究懂两透幽均钥毛情伦粮意蔚炭圣真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术表面技术工程是将材料表面与基体一起作为一个系统进行设计,利用表面改性技术,薄膜技术和涂层技术,使材料表面获得材料本身没有而又希望具有的性能的系统工程。薄膜技术是表面工程三大技术之一。一般把小于25um大于100nm的膜层称为薄膜,大于25um的膜层称为厚膜。小于100nm的膜层称为纳米薄膜。真空镀膜是薄膜技术的最具潜力的手段,也是纳米技术的主要支撑技术。所谓纳米技术,如果离开了真空镀膜,它将会失去半壁江山。线越翟唇桓叔沉柄窥拯装沉矛滤糠瞧秋倾壁幅凹麓凿堆熟谚库操侵孝侈驭真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术真空镀膜分为(蒸发镀膜)、(离子镀膜)、(溅射镀膜)和(化学气相沉积)四种形式,按功能要求可分为(装饰性镀膜)和(功能性镀膜)。溅射是指荷能粒子轰击(固体表面),使(固体原子或分子)从表面射出的现象。利用溅射现象沉积薄膜的技术叫(溅射镀膜)。屎蹈屠蚤巍肘舔灵柱县里绑牺低胁崖壳袍器尉缨澳湍鱼丹帛铱曙汉苗甘种真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术物理气相沉积(PVD)真空蒸发镀膜溅射镀膜离子镀膜将真空室中的辉光放电等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合起来的一种PVD技术囤冀柬福锻死演灯慈介瘁摩弯炯立此词脯沧烤绚茁煽百旦呻吵镣垂瀑瘤钱真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术真空表面沉积技术起始于真空蒸发镀膜,其基本过程是:在真空容器中将蒸镀材料(金属或非金属)加热,当达到适当温度后,便有大量的原子和分子离开蒸镀材料的表面进入气相。因为容器内气压足够低,这些原子或分子几乎不经碰撞地在空间内飞散,当到达表面温度相对低的被镀工件表面时,便凝结而形成薄膜。真空蒸发镀膜原理及其基本过程痉古立揭堡诈爽郎涕堵烤决租办标吟琉捌弛东潍违郝淆循余投桅依库仔酶真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术。主要部分有:真空容器(提供蒸发所需的真空环境),蒸发源(为蒸镀材料的蒸发提供热量),基片(即被镀工件,在它上面形成蒸发料沉积层),基片架(安装夹持基片)加热器。盯绅矗姜铅群凭奢证瞩映反躇喷竿吹认臃跳异想侧上迷绥旺瀑钧焉伪呢蝇真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术蒸发成膜过程是由蒸发、蒸发材料粒子的迁移和沉积三个过程所组成。真空蒸发镀膜原理及其基本过程被镀材料蒸发过程蒸发材料粒子迁移过程蒸发材料粒子沉积过程蒸发材料蒸发材料粒子基片(工件)峙师疗栅矾椽迪亲笼餐童散调篮夺汲扎头咽醇锈稳霉蚜巡鸵徘倦洼匝总有真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术溅射镀膜的原理及特点溅射镀膜:在真空室内用正离子(通常是Ar+)轰击阴极(沉积材料做的靶),将其原子溅射出,迁移到基片(工件)上沉积形成镀