文档介绍：浙江国际科技合作交流大会
“俄罗斯新材料新能源成果推介对接会”
成果发布
次氯酸钠生产装置
主要应用领域:
一个用来生产次氯酸钠(NaClO)的装置(电解槽),次氯酸钠可以用做饮用水、生活污水、池水和工业用水的消毒剂。
操作要素描述:
次氯酸盐的生产方式是电解精制食盐(氯化钠NaCl)溶液。
本装置由电解槽,供精盐分解的水罐,供次氯酸盐溶液储存的水罐,耐化学反应离心泵,电流源,控制台,通风系统,终端部件和电缆。电解槽采用石墨和覆盖了钌氧化物(Ru, ruthenium,原文是rutenum,应该是有误,译者注)的钛电极作为电极。
技术参数:
活性氯产量(最大) 10000kg/24h
负载电流 75—350A
电解电力 30—50V
次氯酸盐浓度 8—12g/L
电解液温度,最高 35摄氏度
占地 15—18m2
主要竞争优势:
现场生成氯,不需要考虑氯的运输和储藏问题
低生产成本
现发展阶段:
原型设备。小规模生产
依靠选择性激发振动态的硅同位素分离
设备介绍:
硅是在现代工业中被广泛使用的材料。超过90%的半导体设备是基于硅制成的。电子行业的发展需要半导体元件更小型化,同时具有更好的频率特性和耦合系数。许多基础的和技术上的问题阻碍了这些目标的实现。这些问题包括了硅晶体结构的热损耗(半导体器件需要很好的散热能力已解决使用中产生的热量,译者注)。解决半导体中硅晶体散热问题的一个可能的途径,就是采用只含有单一同位素的硅材料。现阶段,硅同位素分离的方法消耗巨大能量,昂贵且不安全。因此,成本低廉且简单的硅同位素分离法的发展很关键。
在此项技术中,分离硅同位素采用选择性单一同位素激发振动态,这一转变在烷基胺(alkylamines) 和水解锌(hydrozin)加成的四氯化硅在CO2激光的帮助下发生。
使用单一同位素硅将使以下变成可能
减小微处理器尺寸,提高数据信号率,延长微处理器的使用寿命,提高对中子散射的适应性。
知识产权:
专利 RU
应用领域:
微电子工业;中子嬗变掺杂;科学研究;计量
卤素氟化物
创新技术的目的:
依靠氟化材料,实现氟化氧化作用,具有预设好的氧化水平。
简要描述:
在今天,孵化材料和氟化物质吸引了大量的注意。例如聚四氟乙烯(Teflon)混合物、freon(二氯二氟代甲烷,氟利昂)以及医用的化合物等等含有氟离子的物质被广泛使用。F2,NF3,XeF4,BrF3,ClF3 以及金属氟化物(Ni,Co等)具有最高的氧化水平,是最好的氧化剂。这些氧化反应在气态或者凝聚态下的卤素氟化物介质中可以发生。三氟化溴就是最有前途的卤素氟化物。三氟化溴一系列稳定、复杂的化合物已经被认识。
图一:合成KBrF4
应用领域:
卤素氟化物和它们复杂的化合物被用来进行稳定矿石、工业废水的复杂分解,以利用原子技术对这些物质中贵金属的成分进行分析;被用来进行铀的氟化氧化过程;以及被用来制造和合成氟利昂或其他氟化有机化合物(医用药品,塑料材料等等)。
竞争优势:
借助于卤素氟化物的氟化氧化设备具有一系列的优点:许多卤素氟化物的氧化能力不比现在其他已经发表的,在工业上被使用的氧化剂氧化能力差,而且具有更强的氧化能力。借助于卤素氟化物的氟化氧化设备允许在相对低的温度下,实现工艺流程,同时相比其他的氧化剂,具有更高的效率。
技术转换层级:
图二:制备氟化物的流程
现在,氯,溴,碘的氟化物和其他氟化材料(属于)托木斯克理工大学化学技术系稀有、微量及放射性元素部分(Rare,scattered and Radioactive Elements,CTRE), Nikolaev RAS(Novosibirsk city)有机化学研究所合作。
中子嬗变掺杂(Neutron-transmutation Doped,NTD)硅
应用领域:
NTD硅被用于功率电子半导体产品、电荷耦合器件以及超大规模微结构中。
描述:
图一: NTD硅合成的控制监视画面
图二: NTD硅,—10cm
NTD硅是一种用于掺杂,依靠无坩埚熔化法生成的硅单晶材料。NTD硅被广泛应用于制造特定的小扩散电阻的器件。NTD技术用于对直径达127mm,长度750mm的硅锭进行掺杂。127mm直径,最终特定扩散电阻为60欧姆/cm的硅锭生产率为—6000kg/年。
应用领域:
电气工程,电子
竞争优势:
平稳掺杂,改进后的技术可以生产具有世界标准特性的NTD硅
现发展阶段:
小规模产品
知识产权:
专利 RU