文档介绍：论文题目:自组装制备钛酸锶钡薄膜及性能研究申请学位学科:工学所学学科专业:材料学培养单位:材料科学与工程学院导师:苗鸿雁教硕士生:程蕾谈国强教恢幽强教月授
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本论文选择了一种新型的薄膜材料制备方法一液相自组装技术,能够自组装制备钛酸锶钡薄膜及性能研究摘要钙钛矿结构的铁电材料钛酸锶钡恐鯰且恢种匾5牡缱犹沾刹料,它是和的贠~龇段诘墓倘芴澹坏ň哂蠸的物化稳定性和半导体性能,而且还具有的高介电常数、低介电损耗性能,两种材料固溶后就形成了优越的铁电、压电、热释电性能。.∧げ牧系挠τ梅段Ш芄悖谖⑿偷缛萜鳌⒊蠊婺6婊存储器、微波单片集成电路、热敏电阻、调谐微波器件等领域得到了很广泛在较低温度的条件下将导电玻璃基片浸入前驱溶液中沉积纳米薄膜。这种方法把自组装单分子膜技术与液相沉积技术相结合,发挥了各自的优点,同时在实验进程中采用了紫外光照射技术与接触角理论来研究基片前期处理过程的变化情况。在导电玻璃基片表面成功制备了与基片结合紧密、形貌均匀致密的功能陶瓷薄膜,通过元素徊粼映粱纳米晶体薄膜,并对所制备的薄膜进行了性能的测试分析。通过分析基片前期处理过程中紫外光照射对基片表面的影响及变化,采用接触角测试仪、傅立叶变换红外光谱分析和湎吖獾缱幽芷追治龅炔试手段,探讨研究出紫外光照射对基片的清洁作用。结果表明,。后接触角小于#砻嫒笫P粤己茫锏酵耆姿脑蛹肚褰嘧刺将原子级清洁的基片浸入到%的妆饺芤褐薪蠴单分子膜的自组装过程,通过接触角测试仪、傅立叶变换红外光谱测试、湎吖獾缱能谱测试和原子力显微镜测试等方法分析出シ肿幽ぴ诨砻娴淖组装生长机理。研究表明,随着芤航菔奔涞难映ぃ砻娴模甇与水解后的シ肿恿粗械模甇⑸,形成二维的单分子膜层,。照射时间的延长,清洗干净的基片表面发生了化学变化,高能量的紫外光将
关键词:液相白组装;紫外光照射技术;掺杂;捌薄膜;电学性导致基片的接触角逐渐增大,在蟠锏阶畲笾。砻骰表面的シ肿幽げ阋丫樽巴耆ā6跃齇自组装单分子膜沉积的基片进行第二次紫外光照射,采用接触角测试仪、傅立叶变换红外光谱、射线光电子能谱和原子力显微镜等测试手段研究紫外光照射对シ肿层的改性机理,分析表明,随着紫外光照射时间的延长,シ肿恿幢高能量的紫外光切断形成亲水基团链端羟基,接触角逐渐变小,到时已经小于#硐治M耆姿本实验对薄膜的制备工艺进行了系统的研究,通过湎哐苌湟恰⑸描电镜和湎吖獾缱幽芷椎炔馐允侄畏治隽饲扒芤旱膒怠⒊粱露取沉积时间和退火温度对薄膜的影响,研究结果表明:制备薄膜的前驱溶液的值为,沉积温度℃,沉积时间为时可以沉积出表面平整光滑,结构致密均一的非晶态薄膜,经过嫱嘶蠓蔷∧さ结晶性良好;通过掺杂不同比例的元素制备嚷薄膜,图中的特征峰随着含量的增加发生了明显的偏移,同时扫描电镜图中的晶粒尺寸变大,能谱分析中出现了元素的特征峰,表明元素掺杂成功,沉积了柯訲∧ぁ对所沉积的薄膜和略薄膜进行电性能研究,采用美国安捷伦精密馐砸嵌跃嘶鹁Щ腂薚∧そ械性能测试。介电常数随着频率的升高而降低,介电损耗随频率的升高而增大,纯相的薄膜与啦薄膜相比,介电损耗较大,介电常数较小。/比为的.∧ぷ畲蟮慕榈绯J锏。能Ⅱ
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