文档介绍:LED用蓝宝石单晶衬底抛光工艺的研究
L E D用蓝宝石单晶衬底抛光工艺的研究胡晓凯宋志棠刘卫丽汪海 波张泽芳王良泳中科院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料 国家重点实验室,纳米技术研究室,上海2 0 0 0 5 0
摘要:本论文研究了蓝宝石抛光初始阶段抛光速率与下压力、抛光 转速两项工艺参数的关系;分析了抛光过程中摩擦系数的动态变化规律。 结果表明,抛光速率大致正比于下压力,即随压力增大抛光速率线性加快;
而抛光转速对抛光速率则影响不大。摩擦系数动态监测表明,随着抛光的 进行,动摩擦系数缓慢增加。关键词:蓝宝石;抛光;摩擦系数;纳米氧 化硅抛光液
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作者:
作者单位:胡晓凯,宋志棠,刘卫丽,汪海波,张泽芳,王良 泳中科院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,纳 米技术研究室
,上海 200050