文档介绍：Document serial number【LGGKGB-LGG98YT-LGGT8CB-LGUT-LGG08】
液晶显示器制造工序
液晶显示器制造过程大体可分为20多道工序。这些工序又可分为ITO图形蚀刻、取向排列、空盒制作、液晶灌注、贴偏光片和成品检测6个阶段。下面按顺序具体介绍液晶显示器的的制造过程。
1、PR预清洗
清洗
指清除吸附在玻璃表面的各种有害杂质或油污。
清洗方法是利用各种化学溶剂（KOH）和有机溶剂与吸附在玻璃表面上的杂质及油污发生化学反应和溶解作用，或以磨刷喷洗等物理措施，使杂质从玻璃表面脱落，然后用大量的去离子水（DI水）冲洗，从而获得洁净的玻璃表面。
干燥
因经过清洗后的玻璃，表面沾有水或有机溶剂等清洗液。这样会对后续工序造成不良影响，特别是对后续涂光刻胶时会产生浮胶、钻蚀、图形不清晰等不良。因此，清洗后的玻璃必须经过干燥处理。
目前常采用的方法是烘干法，它是利用高温烘烤，使玻璃表面的水分汽化变为水蒸气而除去的过程。此方法省时又省力。但是如果水的纯度不高，空气净化度不够或干燥机温度不够，玻璃表面残存的水分虽经汽化变为水蒸气，但在玻璃表面还会留下水珠，这种水珠将直接影响后续工序的产品质量。
玻璃清洗洁净度不够之改善对策，适当加入少许KOH溶液，改变KOH浓度，经常擦拭风切口、喷洗等处，亦可调整清洗机传动速度，将传速减慢。
2、PR涂布
光刻是种图形复印和化学腐蚀相结合、综合性的精密表面加工技术。光刻的目的就是按照产品设计要求，在导电玻璃表面均匀涂上一层感光胶。
①光刻胶的配制
,,,必须根据不同的光刻对象和要求,选取不同的配比。
光刻胶的配配制应在暗室（洁净度较高的房间）中进行。用量筒按调配比例将原胶及溶剂分别量好，再将溶剂倒入原胶，用玻璃棒充分搅拌使之均匀混合。通常刚配制好的光刻胶中必然还存在少量固态物质微粒未能完全溶解，为把这部分未能溶解的固态物质微粒滤除，我们一般采用自然沉淀法进行过滤。
②涂胶
为保证ITO层与光刻胶之间有良好的接触和粘附，清洗后的玻璃应立即送光刻工序进行涂胶。如果玻璃搁置较久或者光刻返工，必须重洗再涂胶。
涂胶要求：粘附良好，均匀厚薄适当。若胶膜太薄，针孔较多，则抗蚀能力差；胶膜太厚，则分辩率低。
涂胶方法采用旋转法及辊涂法。为保证胶膜质量，涂胶应在洁净无尘操作箱内进行。涂胶室内温度应保持在20-25°范围内，相对湿度低于60%RH，涂胶要在黄灯照明条件下进行，以防止光刻胶露光失败。
3、前烘
前烘的方法是在恒温干燥箱中烘烤，具体条件视胶的种类和性质而定。
影响前烘质量的主要因素是温度和时间，烘烤不足（温度过低或时间太短），在胶膜与ITO交界面处，胶中的溶剂未充分挥发，曝光后形成浮胶或使图形变形。烘烤过头（温度太高或时间太长），会导致胶膜翅曲硬化，形成不易溶于显影液中的薄膜而留下来，显影不干净或胶胶面发皮、发黑，失去抗蚀能力。
4、曝光
目前曝光方法采用接触式曝光，因此方法所用设备简单，操作方便，它包括“定位”和“曝光”两步骤。定位对光刻精度影响很大，是光刻中十分重要的一环，要认真对准。
一般操作程序是：先预热紫外光（UV灯），待光源稳定后，把菲林安装在支架上；将涂有光刻胶的ITO玻璃放在平台上，胶面朝上，将菲林支架放下，仔细调整平台微动装置，使菲林上定位标志与平台上玻璃的定位标志准确套合。定位完成即可曝光，曝光后经过显影并检查定位是否正确。
曝光时间由光源到ITO玻璃的距离、光源强弱、光刻胶的感光性能及菲林、玻璃厚薄等因素决定。
如曝光时间过短，光刻胶感光不足，则其光化学反应不充分，光刻胶的抗蚀性能就会降低，显影时部分光刻胶会被溶解，此时在投影机下可观擦到胶膜发黑；若曝光时间太长，会使光刻胶不该感光部分的边缘被微弱感光，即产生“晕光”现象，蚀刻后边界模糊或出现波纹，使分辩率降低。
为了保证曝光质量，在操作中要注意以下几点：
①定位必须严格套准；
②菲林必须平整地点在玻璃上，不能有空隙。若存在空隙，则不该曝光的地方也会受 到光的照射，使图形产生畸变；
③曝光操作中，应注意动作要轻，保护好菲林不致割伤；
④曝光时间必须准确控制；
5、显影
显影的目的是将感光部分的光刻胶溶解，留下未感光部分胶膜，从而显现出所需要的图形。 显影必须越彻底，以使图形边缘整齐。显影需严格控制好显影时间。若显影时间不足，则在未感光处留下一层不易察觉的光刻胶层，在蚀刻ITO层之初，它起了阻蚀作用，而随着蚀刻液对这一薄层胶膜的穿透和破坏，使这一薄层的ITO层蚀刻不彻底，