文档介绍：申请上海交通大学工程硕士学位论文

利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距

学校：上海交通大学
院系：微电子学院
工程领域：软件工程
交大导师：程秀兰教授
企业导师：施春山
工程硕士：袁伟
学号：1052102136

上海交通大学微电子学院
2007 年 7 月
上海交通大学
学位论文原创性声明

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日期：年月日
上海交通大学
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学位论文作者签名：指导教师签名：

日期：年月日日期：年月日
利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距

摘要

集成电路产业一直向着集成度越来越高，关键尺寸越来越小的方向
发展。将光刻部分的线宽做到更小的关键就是分辨率 R 值的降低，这会
导致聚焦深度(DOF)减小, 随着 DOF 越来越小，就对现在的光刻工艺制程
中焦距的稳定性提出越来越高的要求,所以对光刻机台焦距的监测精度
和稳定度要求越来越高。
本文实验并阐述了一种新型的光刻机台焦距的监测方法。传统的监
测方法是通过焦距矩阵的方式曝光后用线宽测量机台进行测量找到最佳
焦距。实验结果表明，通过利用相移光掩膜(光掩膜即光刻掩膜版)的某
些特性将监测焦距的方式从传统的线宽测量机台转移到套准测量机台
上，可以很好的避免传统监测方式下许多不确定因素的干扰，提高监测
的精确性和稳定性，减少监测时间，并同时可用于对光刻机台最重要的
组件“镜头”以及曝光托盘平整度和倾斜度的监测，满足了对下一代光
刻工艺焦距监测的要求。这项实验应用，无论是直接用于生产，还是对
工程领域解决生产中硅片边缘散焦和曝光区域内规律性合格率损失等困
扰已久的问题都提供了很好的帮助。

关键词：光刻, 焦距, 相移技术, 光掩膜, 套准
PHASE SHIFT MASK MONITOR SCANNER FOCUS