文档介绍：国际企业中心方案设计任务书
一、 项目名称
国际企业中心方案设计
二、 项目背景分析
项目所在区域是我国投资最活跃的武汉东湖新技术开发区,武汉·中国光谷—国家光电子信息产业基地。
各类高科技中小型企业在开发区已得到长足的发展,企业主要性质为:软件开发、电子、分销、国内大型相关企业驻汉机构等。其职工基本人数50~100人左右,需求的办公面积500~2000元/㎡为主,也有少数需求5000㎡左右。他们完成资本原始积累后需要一个更好的发展空间。他们的办公建筑希望以办公研发为主,间或有培训功能,有集中统一、服务良好的物业管理,能减少企业的社会负担。同时办公建筑要求气派、大方,能提升企业形象,便于识别。企业能有独立的出入口,便于管理和塑造企业形象。
而目前开发区存在的企业孵化器、标准厂房、商业写字楼由于种种原因已不能适应他们的需求。企业孵化器主要针对创业型小型公司。标准厂房价格1700~1800元/㎡,其层高柱网专为轻型工业设计,不能满足研发使用要求,其外观也不符合办公建筑性格。商业写字楼价格3500~4000元/㎡,超出他们的承受能力。
于是国际企业中心主要销售对象应为这类高科技中小型企业。区域应具有良好的办公气氛,并能提供餐饮、休闲、金融服务及适当的会议活动场所。其价格承受能力应在2000~2500元/㎡之间。
三、项目用地概括
本项目位于“武汉·中国光谷”两大产业园区—光电子产业区和生物工程产业区之间,东邻关山二路(宽60米),西侧为煤气厂,基地面积约60722平方米(含代征)。区域内地势平整。有支路连接煤气厂和关山二路,将用地划分为两块。支路路幅为9m,有管径500的煤气干管向北平行于支路并距支路道路中心线6m暗埋于地下。设计中新建建筑物基础与煤气管净距不得小于2m。
四、设计要求
1. 办公单元每层建筑面积控制在2000㎡左右,可考虑分为2×1000㎡或4×500㎡,最小划分单元500㎡,可灵活组合。层高3200㎜。
2. 该项目性质为出售型办公用房,考虑到经济效应对项目的要求,应充分利用关山二路的优势,适当加大沿关山二路办公单元的建筑面积。在综合考虑企业中心南区建筑布局的情况下,园区轴线适度向西平移,减少西区办公单元建筑面积,力求合理。
3. 园区实行封闭式管理,提供进出两个出入口单向进出的管理模式。设计详细的步行系统,园区内人车适当分流。停车位达到40~50/万㎡(建筑面积),在设置集中停车位的同时考虑每栋建筑配备10个左右的停车位。
4. 提出安防系统模式建议。充分重视园区环境设计,营造环境优美的高科技工业园区。结合景观外部围护,形成隐形围墙。
5. 本区域内控制性详细规划规定建筑主导色为浅灰色系。区域内主要为高科技企业,建筑风格应简洁明快,外观应体现出高档写字建筑的档次。
6. 原会所位置考虑安排一个办公单元,建筑面积5000~6000㎡。会所结合地块东南角办公单元设置。会所要考虑对外服务,领导入口与一般人流入口分开考虑。企业中心会所主要功能是为中小型高科技产业公司、低层高密度的小型办公楼及研发楼群提供服务。考虑安排适当规模的、完善的服务配套设施。服务设施应包括:物业管理用房、商业用房。商业用房应考虑设置集中的展示、会议和学术报告多功能厅(200人规模)、小型会议室、健身房、咖啡廊、餐饮用房(规模应满足企业中心