1 / 103
文档名称:

精品PPT课件----第十二章电子化学品.ppt

格式:ppt   页数:103
下载后只包含 1 个 PPT 格式的文档,没有任何的图纸或源代码,查看文件列表

如果您已付费下载过本站文档,您可以点这里二次下载

精品PPT课件----第十二章电子化学品.ppt

上传人:wo1230 2014/9/29 文件大小:0 KB

下载得到文件列表

精品PPT课件----第十二章电子化学品.ppt

文档介绍

文档介绍:第12章电子化学品本章要求:了解电子化学品的种类、产品使用特点;了解各类电子化学品的发展现状;了解超高纯化学试剂的制备技术;了解电子特种气体三氟化硼的生产工艺;了解液晶材料的合成工艺、应用及发展趋势。本章重点:光刻胶、超净高纯试剂、特种气体、液晶。本章难点:光刻胶、特种气体、液晶。电子化学品是指为电子工业配套的精细化工产品,是电子工业的重要支撑材料之一。分类:光刻胶、印制电路板基板材料及配套化学品、超净高纯试剂、特种气体、液晶及配套化学品、电子封装材料等。特点:质量要求高、用量小、对环境洁净度要求苛刻、产品更新换代快、资金投入量大、产品附加值高。,又称光致抗蚀剂。组成:成膜树脂、感光剂、溶剂。特点:对光敏感原理:利用成膜树脂光照后,树脂的溶解性或亲和性发生明显变化。用途:在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,采用适当的有选择性的光刻胶,使表面上得到所需的图像。分类:1、正型光刻胶:涂层经曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分被保留的涂层材料。2、负型光刻胶:涂层经曝光、显影后,曝光部分被保留,未曝光部分被溶解的涂层材料。光刻胶是集成电路制作过程的关键材料,光刻技术经历了从G线(436纳米)、I线(365纳米)、到深紫外线(248纳米),以及目前193纳米的发展历程。,光刻工艺的基本步骤: