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CN111509024A-一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法.docx

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CN111509024A-一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法.docx

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CN111509024A-一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法.docx

文档介绍

文档介绍:(19)中华人民共和国国豕知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111509024 A
(43)
申请号
申请日
申请人步提高显示面板
的开口率,目前的一种方案是在显示面板的有效显示区(Active Area ,以下简称AA区)开 孔,用于设置显示装置的摄像头、传感器或者按键等。由于在形成显示面板的电致发光层 时,通常采用开放式掩膜板对显示面板的AA区进行全面蒸镀,若在AA区内开孔的话,需要利 用隔离柱将AA区和孔之间的发光层隔断,以防止水汽和氧气沿发光层传输到AA区,导致显 示面板的显示失效。
[0004] 现有技术中,通常在形成源漏极时一并形成同材质的隔离柱,由于隔离柱裸露后 会与后续形成阳极层的材料发生反应而导致银粒子析出,银粒子在开孔周围聚集就会导致 显示面板出现暗点不良的情况,影响显示面板的显示效果。
发明内容
[0005] 本发明实施例的目的是提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
[0006] 本发明实施例提供了一种显示面板,包括显示区和非显示区,所述非显示区内设
有开孔;所述显示面板包括:
[0007]基板;
[0008] 设置于所述基板上的平坦层以及与所述平坦层同层同材质的隔离柱,所述平坦层 位于所述显示区内,所述隔离柱位于所述非显示区内且围绕所述开孔设置,所述隔离柱与 所述平坦层相间隔;
[0009] 设置于所述平坦层及所述隔离柱背离所述基板的一侧的发光层。
[0010] 优选的,所述显示面板还包括位于所述平坦层背离所述基板的一侧的阳极层,所
述阳极层位于所述显示区内。
[0011] 优选的,所述显示面板还包括位于所述平坦层及所述隔离柱靠近所述基板的一侧
的薄膜晶体管层结构。
[00⑵ 本发明实施例提供的显示面板,隔离柱采用有机材料形成,不仅可以可靠地将显 示区和非显示区的发光层隔断,并且相比现有技术,该方案不会产生金属颗粒在非显示区 周围聚集的情况,因此可以减小显示面板出现暗点不良现象的风险,提高显示面板的显示 效果。
[0013] 本发明实施例还提供了一种显示装置,包括前述方案所述的显示面板。该显示装
置的显示效果较好。
[0014] 本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,所述显示面板包括显示区和非
显示区,所述非显示区内具有待开孔区域;所述制作方法包括:
[0015] 在所述基板上形成平坦层以及与所述平坦层同层同材质的隔离柱,所述平坦层位 于所述显示区内,所述隔离柱位于所述非显示区内且围绕所述待开孔区域设置,所述隔离 柱与所述平坦层相间隔;
[0016] 在所述平坦层及所述隔离柱背离所述基板的一侧形成发光层。
[0017] 具体的,在所述基板上形成平坦层以及与所述平坦层同层同材质的隔离柱,具体
包括:
[0018] 在所述基板上形成第一层覆膜;
[0019] 在所述第一层覆膜远离所述基板的一侧依次形成第二层覆膜和光刻胶覆膜;
[0020] 通过掩膜板对所述光刻胶覆膜进行曝光,使所述光刻胶覆膜对应除所述平坦层和
所述隔离柱以外的区域完全曝光;
[0021] 对曝光后的光刻胶覆膜进行显影,并以显影后的光刻胶覆膜对所述第二层覆膜进 行刻蚀,形成与所述平坦层和所述隔离柱对应的保护覆膜,去除所述保护覆膜上残留的光 刻胶覆膜;
[0022] 以所述保护覆膜为掩膜对所述第一层覆膜进行刻蚀,形成所述平坦层和所述隔离
柱。
[0023] 可选的,所述第二层覆膜的材质包括氧化掴锡,在形成所述平坦层和所述隔离柱
后,所述制作方法还包括:
[0024] 通过构图工艺将所述保护覆膜图案化、以形成阳极层,所述阳极层位于所述显示
区内。
[0025] 可选的,以所述保护覆膜为掩膜对所述第一层覆膜进行刻蚀,具体包括:
[0026] 使用N-甲基毗咯烷酮、二甲基亚飒或者N-甲基毗咯烷酮与二甲基亚砚的混合溶剂
作为刻蚀液,对所述第一层覆膜进行湿刻。
[0027] 可选的,以所述保护覆膜为掩膜对所述第一层覆膜进行刻蚀,具体包括:
[0028] 使用四氯化碳或者烷基链苯磺酸作为刻蚀液,对所述第一层覆膜进行湿刻。
[0029] 可选的,所述第二层覆膜为掴锌氧化物材质,在形成所述平坦层和所述隔离柱后, 所述制作方法还包括:
[0030] 刻蚀去除所述平坦层和所述隔离柱表面的保护覆膜。
[0031] 采用本发明实施例提供的显示面板的制作方法,隔离柱采用有机材料形成,不仅 可以可靠地将显示区和非显示区的发光层隔断,并且相比现有技术,该方案不会产生金属 颗粒在非显示区周围聚集的情况,因此可以减小显示面板出现暗点不良现象的风险,提高 显示