文档介绍：一种透明导电薄膜制作方法
专利名称：一种透明导电薄膜制作方法
技术领域：
本发明涉及一种触摸屏Sensor (传感器)，特别涉及一种透明导电线路薄膜的制作方法。
背景技术：
目前触摸Sensor制作有两种工艺，第一种为黄光制程、主一种透明导电薄膜制作方法
专利名称：一种透明导电薄膜制作方法
技术领域：
本发明涉及一种触摸屏Sensor (传感器)，特别涉及一种透明导电线路薄膜的制作方法。
背景技术：
目前触摸Sensor制作有两种工艺，第一种为黄光制程、主要工艺流程为真空镀ITO (氧化氧化铟锡)膜，清洗，涂布感光胶、烘烤、瀑光、显影、蚀刻、脱膜。第二种是激光干蚀刻技术，主要流程为为真空镀ITO膜，清洗，激光蚀刻，银奖印刷，烘烤，覆盖保护层。第一种产品工艺成熟、产品性能稳定，但是工艺流程复杂，成本较高而且受ITO材质本身特性限制，面电阻很难做到30欧姆以下，线宽线距最小只能做到O. 03mm。第二种工艺相对简单，但是产品的良品率较低，产品的功能不稳定，银奖线路的线宽和线距只能做到O. 07mm以上。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种新型的透明导电薄膜的制作技术，即通过印刷纳米银材料的技术，来实现在玻璃或膜材上印刷透明线路的方式来制作电容屏Sensor，从而解决传统黄光制程成本较高及干蚀刻制程工艺不稳定的问题。针对上述目的，本发明采取以下技术方案，一种透明导电薄膜制作方法，光导体鼓的上方设有充电电极，下方放置有网版，网版的下方设置有光源，其特征在于，其步骤如下
O在封闭遮光的黑暗环境下充电电极给光导体鼓表面充上均勻的电荷；
2)光源通过网版对光导体鼓表面进行曝光；
3)显影装置将带有与光导体鼓表面电荷相反的纳米银粉状颗粒带到光导体鼓附近，纳米银粉状颗粒吸附于光导体鼓表面；
4)基板被送到光导体鼓下方，,使光导体鼓表面的纳米银粉状颗粒吸附到基板上；
5)将表面吸附有纳米银粉状颗粒的基板进行热处理固化，并形成薄膜线路。所述显影装置为圆筒状。所述热处理的温度为70°C ±5°C，时间为5s。所述网版上按照1:1的比例印有所需产品的线路图形。所述基板是玻璃或膜材。本发明的优点在于，成本低、良率高，制作的透明导电薄膜阻抗低、线宽线距可做到O. 01mm以下。
图I是本发明的光导体鼓表面充电不意图。
图2是本发明的光导体鼓表面曝光不意图。图3是本发明的光导体鼓表面显影示意图。图4是本发明的印刷示意图。图中1、充电电极，2、光导体鼓，3、网版，4、光源，5、显影装置，6、基板。7、印刷带电体，8、纳米银粉状颗粒。
具体实施例方式以下结合实施例对本发明作进一步说明，参见图I至图4，一种透明导电薄膜制作方法，光导体鼓2的上方设有充电电极1，下方放置有网版3，网版3的下方设置有光源4，其特征在于，其步骤如下 O在封闭遮光的黑暗环境下充电电极I给光导体鼓2表面充上均勻的电荷；
2)光源4通过网版3对光导体鼓2表面进行曝光；
3)显影装置5将带有与光导体鼓2表面电荷相反的纳米银粉状颗粒8带到光导体鼓附近，纳米银粉状颗粒8吸附于光导体鼓表面；
4)基板6被送到光导体鼓2下方,,使光导体鼓2表面的纳米银粉状颗粒8吸附到基板6上；
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