文档介绍：飞秒激光加工超光滑光学表面综述
精密和超精密加工技术、制造自动化是先进制造技术的两大领域,精密工程、精细工程和纳米技术是现代制造技术的前沿,也是未来制造技术的基础。超精密加工是一门新兴的综合性加工技术,它集成了现代机械、电子、测量及材料等先进技术成就,?m级,极大地改善了产品的性能和可靠性。超光滑表面加工技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,在国防工业、信息产业民用产品的制造中占有非常重要的地位且有着广泛的市场需求,具有良好的发展前景。
科技的进步极大地推动了技术的发展,随着光学领域和微电子学领域及其相关技术的发展,对所需材料的表面质量的要求越来越高。大规模和超大规模集成电路对所用衬底材料的表面精度提出了很高的要求;短波段光学的发展尤其是强激光技术的出现,对光学元件表面粗糙度的要求极为苛刻。从而产生了超光滑表面的概念,并出现一系列用于进行超光滑表面加工的技术和方法。超光滑表面具有以下主要特征[1]:
(1) 表面粗糙度小于1nm Ra,对于光学元件,表面粗糙度小于1nm RMS(粗糙
度均方根值),
(2) 尽可能小的表面疵病与亚表面损伤;
(3) 表面残余应力极小;
(4) 晶体表面具有完整的晶体结构,即表面无晶格错位。
超光滑表面的加工手段有抛光和超精密机械加工等,而抛光应用得最广泛。超光滑表面加工的对象是晶体、陶瓷等硬脆性材料。超光滑表面主要应用于现代武器惯导仪表的精密陀螺的平面反射镜、激光核聚变反射镜、大规模集成电路的基片、计算机磁盘、磁头和蓝宝石红外探测器窗口的透镜等。
对于各种超光滑表面的抛光加工手段,根据在加工过程中工件和抛光盘之间的接触状态可分为3种类型:直接接触、准接触和非接触。在各种抛光方法中的接触状态均只属于其中一种,并在抛光过程中基本保持不变[1],[2]。
1. 直接接触抛光
直接接触抛光是指抛光盘和工件在抛光过程中直接发生接触,依靠抛光磨料的机械磨削作用和抛光盘的摩擦作用去除材料。浴法抛光、Teflon法抛光等都属于这种接触方式。
2. 非接触抛光
非接触抛光是指使工件与抛光盘在抛光时不发生接触,仅用抛光液冲击工件表面,以获得完美结晶性和精确面型的加工表面的抛光方法。EEM、浮法抛光、激光抛光等都属于这种接触方式。该方法的去除量极小,可用于加工功能晶体材料元件(强调表面的晶格完整性),也可用于加工光学元件(强调高面形精度和极低的粗糙度值)。
3. 准接触抛光
准接触抛光是指,在抛光过程中产生的动压使抛光盘和工件之间存在合适的间隙。化学机械抛光便是典型的准接触抛光。
随着材料表面技术的发展,表面抛光技术成为了一个越来越重要的技术。抛光技术又称镜面加工技术,是制造平坦而且加工变形层很小、没有擦痕的面加工工艺。在工业应用中,对材料表面粗糙度的要求越来越高,已经从微米级→亚微米级→纳米级→亚纳米级。为了满足应用的需要,已经有多种抛光技术被应用在工业生产中。抛光技术有:机械抛光、超声波抛光、化学抛光、离子束抛光、电解抛光、流体抛光、磁研磨抛光、激光抛光等。这些抛光技术在电子设备、精密机械、仪器仪表、光学元件、医疗器械等领域得到广泛的应用。
超光滑表面的抛光机理:,而超光滑表面的微观起伏的均方根值为几个原子的尺寸,因此实现超光滑表面加工的关键在于实现表层材料原子量级的去除。传统的抛光理论认为,抛光是由磨料的机械磨削作用、抛光液的化学作用和工件表面材料的热流动共同作用的结果。对于超光滑表面的抛光,其材料去除的方式不外乎也是通过机械的作用和化学的作用,区别在于作用的方式有所不同。在硬脆性材料的超光滑表面抛光中,磨料的机械作用表现在以塑性的方式产生切屑。 ano提出了塑性磨削理论,他认为如果将磨削深度控制在几十纳米到几个纳米之间,硬脆性材料在磨削过程中的去除机理由脆性崩裂变为塑性流动。
随着纳米粉体技术的发展,纳米级磨料在超光滑表面抛光中得到了越来越广泛的应用,这使塑性磨削成为可能。在超光滑表面抛光中磨料的去除单位已在纳米,甚至已是亚纳米级,在这种加工尺度内,加工氛围中的化学作用显得尤为重要。在超光滑表面抛光中抛光液的化学作用表现在:先在被加工表面形成一层易于磨削的软质层,再利用抛光料或抛光盘的机械磨削的作用加以去除。这样就可以实现用软质抛光料加工硬质材料,而且对材料的去除及减少加工变质层是有利的。目前普遍认为超光滑表面抛光是磨料或抛光盘的机械作用和抛光浆料的化学
作用的结果,以物理、化学的方式去除材料。不同的抛光方法就在于机械作用和化学作用的组合上有所不同。目前关于超光滑表面加工机理的研究尚不完善,有待于通过纳米摩擦学的微切削理论做出进一步的解释。
在实际生产应用