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气体纯化技术进展
一一一土
孔照荣
化工部光明化工—信莆呻
阐孵了气体纯化技术发展的必然趋蛰,详细舟绍了国内外气体纯化工艺垃程和技术性能,指出了我国配气啊~、
高纯度底气压力型纯亿技术开茇研究的迫切性.
关键词:纯化。精制,超高纯度。纯化器,再生,氢,氮,氧,氢
气体纯化技术的兴起。年世界集成电路产量已达
表年特种气体销售额
焊接工业、化学工业、钢铁工业和航天
特种气体电子气标准气
工业等,都对气体纯化技术的发展产生过巨
国别总销售额总销售颤昕占比儡总销售萄所占比
大的推动作用。包括特种气体在内的纯化气
拽亿美元亿美元亿美元
/ . 已在石油化
美国.
工、金属冶炼、纺织、建材、切割、焊接、医
日术. .
疗卫生、食品贮藏和环境保护等国民经济领
㈣去国
域,得到广泛的应用。特别是世纪后期,
、新亿块。由于大规摸集成电路、超大
怒
型能源、遥感激光、光导通讯、空间科学和规模集成电路、超高速硅集成电路
国防中不可缺少的新型材料。
, 段,
亿..亿..亿。盛期,兆位已正式销售。兆位已开发成
近年来,经济发展速度较快的东南亚,特别功国外发展情况及前景见表。在生
是韩国、台湾、新加坡、香港、印度尼西亚表国外发展情况
、、
,:.亿.
.亿,.亿,可见对纯
化气体的需用量是相当大的。
自年代来,我国化学工业、石化工
业、冶金工业等自建和引进的大型装置, 在
生产过程中都需要数量很大和品种较多的各
种纯化气、标准气和混合气。



发展是十分迅速的年世界特种气体销
售额中个领先国家及其所占比例见表产中用作反应气、保护气和携带气的、、
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低温与特气
、:气必须达到~ 高纯度。微电子工低温法的能耗及经济性对比情况。法用
业在世界上处于领先地位的日本,对:、、于氢气纯化,虽然产品纯度可达到
、:纯度提出了很高的要求,见表。. ,但其回收啐仅为左右。影响
法今后进一步发展的主要因素是能耗
表日本半导体器件制备用气的纯度
和回收率。
我国法早在年代就开始研究,
到年,化工部蔼南化工研究院研制的制
氢装置投入了生产匣用,苏州吴县制氧机厂
与军工部门合作,研制了小型法制氧装
置。目前,我国研究法的已有余家单
因此,国外在电子级气体纯度基础上,
位。
又开发了发光二极管级、光纤级
膜分离技术正在兴起。不过,由于存
、溅射级、刻蚀级、氮
在回收率较低和产品纯度不高两大缺点。膜
化级和大规模集成电路级纯
分离装置国外虽已工业化,但还需对高性能
度的特种气体。
膜材料、制膜工艺、膜分离技术及膜舒离机
我国从年开始研制,到年
理等问题进一步开发研究。
已突破亿块,现在已推广应用产