文档介绍：低温与特气第卷
· 专利技术·
气体纯化装置分离低压二氧化碳来说能耗较低;由于二乙基乙
醇***是一种叔***,沸点高,分子的稳定性比伯***
公开公告号: 和仲***好,可大幅度减少在使用过程中溶剂的降
公开公告日:——解损耗。可用于捕集或分离各种常压气体混合物
申请专利权人:苏州苏净保护气氛有限如燃煤电厂、钢铁、水泥、石油化工等企业排放
公司的烟道气中的二氧化碳。
摘要:本发明涉及一种气体纯化装置,具有
进气口、出气口,气体纯化装置包括通过管道依湿法处理磷矿石过程中
次连通的加热装置、除烃反应器、除氧反应器、生产高纯四***化硅的方法
冷却器、干燥吸附器,加热装置、除烃反应器、
除氧反应器、冷却器、干燥吸附器均具有进气端公开公告号:
和出气端,加热装置的进气端与进气口相连通, 公开公告日:——
加热装置的出气端与除烃反应器的进气端相连通, 申请专利权人:贵州大学
除烃反应器的出气端与除氧反应器的进气端相连摘要:湿法处理磷矿石过程中生产高纯四***
通,除氧反应器的出气端与冷却器的进气端相连化硅的方法,该方法包括:第一步,收集湿法处
理磷矿石过程中产生的含***气体;第二步,将含
通,冷却器的出气端与干燥吸附器的进气端相连
***气体引人一加有硫酸和二氧化硅的反应器中,
通,干燥吸附器的出气端与出气口相连通;除烃
使气体中***化氢转化为四***化硅;第三步,用浓
反应器中装填有型脱烃剂,除氧反应器中装
硫酸或含有的浓硫酸净化四***化硅气体,除
填有高效催化剂。本发明工艺简单、操作简便、
可靠性高,可获得小气量的高纯度气体,具有较去水分和含氧***化物;第四步,过滤其中杂质;
大的推广价值。第五步,再经两段低温分离,得到液态/固态的高
纯度四***化硅产品;第六步,经第五步得到的产
一种硅烷中微量杂质的去除方法品置于常温,得到气体产品。本法将湿法分解磷
矿石产生的含***气体充分回收利用,制得高纯四
公开公告号:
***化硅,为电子工业、光伏产业的晶体硅、非晶
公开公告日:——
体硅提供新的原料来源,也为光纤行业基础材料
申请专利权人:比亚迪股份有限公司
二氧化硅提供新的原料来源。适用于湿法处理磷
摘要:本发明公开了一种硅烷中微量杂质的
矿石的化工企业。
去除方法,包括采用大孔型阳离子交换树脂,对
所述大孔型阳离子交换树脂进行改性;将改性后一种气体分离复合膜的制备方法
大孔型阳离子交换树脂装填入吸附塔中,经吹扫
除氧后使硅烷气体通过。本发明提供的硅烷中微公开公告号:
量杂质去除方法显著去除了硅烷中的、, 公开公告日:——
和,等微量组分,使各组分含量降至.× 申请专利权人:大连欧科膜技术工程有
以下,