国家标准《电子工厂洁净厂房设计规范》.ppt

文档介绍：国家标准《电子工厂洁净厂房设计规范》中强制性条文GB 50472-2008
陈霖新
中国电子工程设计院
2009年07月
1、电子工厂洁净厂房特点
2、章节内容简介
3、强制性条文等介绍
4、结语
1、电子工厂洁净厂房特点
电子产品生产发展迅猛
,12〞~16 〞,64G
TFT第六代产品
对化学污染物的严格要求
大面积、大体量、组合式、多层洁净厂房
投资大、能量消耗大
1、电子工厂洁净厂房特点
集成电路对化学污染物的控制指标
电子工厂洁净厂房的特点:
微粒控制十分严格、
ISO1级或更严格。
高纯物质,包括高纯水、高纯气体高纯化学品的供应、输
送。
对微振控制十分严格、需制定切实可行的规定
对防静电、电磁兼容等
大体量、多层单向流洁净室,二层/三层布置数万m2。
1、电子工厂洁净厂房特点
1、电子工厂洁净厂房特点
项目
位置
状况
规格
(㎜)
洁净生产区
面积(㎡)
建筑
高度
芯片厂18
上海
生产运行
300(12")
12000

芯片厂19
上海
生产运行
300(12")
9400

芯片厂20
成都
生产运行
200(8")

21
芯片厂21
上海
生产运行
200(8")
10321

芯片厂22
苏州
生产运行
200(8")
12000

芯片厂23
重庆
建设中
200(8")
1500
28
芯片厂24
浙江
生产运行
150(6")
5160
19
TFT-LCD/1
北京
生产运行
5代,1100×1300
28000

TFT-LCD/2
上海
生产运行
5代,1100×1300
22000+14000

TFT-LCD/3
昆山
试生产
5代,1100×1300
~3000

TFT-LCD/4
深圳
正在建设
5代,1100×1300
~33000

TFT-LCD/5
台湾
生产运行
6代,1500×1800
~36000
~27
TFT-LCD/6
上海
正筹建
6代,1500×1800
~34000
~27
TFT-LCD/7
北京
正筹建
6代,1500×1800
~36000
~27
TFT-LCD/8
日本
生产运行
8代,2160×2460
~90000

表1 国内外一些微电子洁净厂房的高度和洁净生产区面积
1、电子工厂洁净厂房特点
表22 几类电子产品所需气体品种
1、电子工厂洁净厂房特点
表 25 集成电路芯片(64M)生产过程部分化学品的质量要求
微粒()
化学品种类


金属离子
H3PO4
HCl
H2SO4
H2O2
NH4OH
<40
<30
<20
<20
<20
<20
<20
<10
<10
<10
<-9
<-9
<-9
<-9
<-9
HNO3
49%HF
5%HF
1%HF
<30
<30
<30
<30
<20
<20
<20
<20
<-9
<-9
<-9
<-9
1、电子工厂洁净厂房特点
表12 8″大规模集成电路生产用高纯水质量指标(前工序)