文档介绍：中山大学
硕士学位论文
多晶硅太阳电池表面织构及背腐蚀先进工艺的研究
姓名:赵汝强
申请学位级别:硕士
专业:材料物理与化学
指导教师:沈辉
20090601
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多晶硅太阳电池表面织构及背腐蚀先进工艺的研究摘要专业牧衔锢碛牖硕士生:赵汝强指导教师:沈辉教授降低入射光的反射率。本文先以逑滴;。酶飨蛲允7ɑ腐蚀方法制备出了多晶硅片绒面,然后尝试采用激光技术制备反射率更低的表面织构,最后通过背腐蚀技术优化多晶硅太阳电池生产工艺。为产业化生产多晶硅太阳电池给出了理论和工艺参考。本论文共有五个章节,分别对多晶硅表面织构和背腐蚀技术进行论述。池制造技术的最新进展,并对各种制备工艺做出评价和展望。第二章介绍了利用各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面的研究结果,主要采用酸表面形貌和陷光效果。随着反应时间的增加,表面形貌从微裂纹状变为气泡状,反射率是一个先降后升的过程,其中微裂纹状织构的反射率比气泡状的低。通过第三章介绍了利用激光制备多晶硅表面织构的研究结果。主要采用激光在硅片表面刻蚀,然后利用化学方法去除残余和损伤,制得各向同性的表面形貌。通少子寿命仪分析了表面织构化后的表面形貌,反射率和少子寿命。通过调节激光和化学腐蚀参数得到很好的陷光结构,激光点阵比平行刻槽的表面织构有更低的反射率,但其清洗难度也高效率和低成本的一直是太阳电池研究的热点。增强太阳电池表面对入射光的吸收有利于提高太阳电池的转换效率,太阳电池都会在其表面采取一定的措施第一章综述了当前晶体硅太阳电池的发展状况,介绍了商业化晶体硅太阳电腐蚀制绒,并利用虷分光光度计分析了化学腐蚀后多晶硅片优化各种参数,获得了腐蚀速度平缓,表面形貌介于微裂纹与气泡状之间,能与目前太阳电池后续工艺相适应的多晶硅绒面制作工艺。过琀分光光度计和
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较大。激光表面织构为多晶硅的减反射处理提供有效的途径,虽然目前还没有被广泛应用,但是随着激光设备和工艺的发展,激光表面织构技术将成为太阳电池第四章研究背腐蚀工艺,制备多晶硅太阳电池。背腐蚀与等离子刻蚀分离虽然填充因子不如等离子刻蚀的,但其平均效率可达到.%,比等离子刻蚀制备的太阳电池高%左右。背腐蚀分离狽结适用于大规模自动化生产,而且是制备背点接触高效电池的必须手段,因此背腐蚀分离狽结工艺是未来关键词:工业生产的一种重要手段。—峁ひ障啾龋舻绯夭问兴岣撸饕1硐衷诳B返缪筕∞和短路电流蕖发展的趋势。第五章对未来太阳电池工艺发展的趋势进行展望。表面织构化;各向同性腐蚀;激光处理;背腐蚀;多晶硅太阳电池
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辍粅起论文原创性声明本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指体,均已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的导下,独立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究作出重要贡献的个人和集法律结果由本人承担。学位论文作者签名:日期:Ⅱ
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导师签名:沙副争年乡月年/月/日学位论文使用授权声明本人完全了解中山大学有关保留、使用学位论文的规定,即:学校有权保留学位论文并向国家主管部门或其指定机构送交论文的电子版和纸质版,有权将学位论文用于非赢利目的的少量复制并允许论文进入学校图书馆、院系资料室被查阅,有权将学位论文的内容编入有关数据库进行检索,可以采用复印、缩印或其他方法保存学位论文。学位论文作者签名:越乃日期:Ⅳ
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日期:护辏拢学位论文作者签名:越汝弓氓知识产权保护声明本人郑重声明:我所提交答辩的学位论文,是本人在导师指导下完成的成果,该成果属于中山大学物理科学与工程技术学院,受国家知识产权法保护。在学期间与毕业后以任何形式公开发表论文或申请专利,均须由导师作为通讯联系人,未经导师的书面许可,本人不得以任何方式,以任何其它单位做全部和局部署名公布学位论文成果。本人完全意识到本声明的法律责任由本人承担。
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燮崂⋯%兰兰二:爿⋯。。。⋯熹一第一章绪论太阳电池理论背景能源是人们生产生活的物质基础,当代社会对化石燃料的利用虽然为社会创造了极大的财富,但是同时也造成了资源的巨大浪费,和生态环境的恶化。而且化石能源的资源有限性和开发利用带来的环境问题总是严重制约着经济和社会型发电技术,具有资源无限、清洁安全、长寿命等优点,是晟有发展前途的可再生能源技术之一。因此,加快太阳能的丌发利用是解决我国能源和环境问题的重荆⑸区与基层形成内建电场使电子空穴分离,紫外短波光子在发射区内被完全吸收,产生电子空穴对,其中空穴将被内建电场分离到基区;波长稍长的光子在空