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磁控溅射制备CuZrW2O8梯度薄膜工艺研究.pdf

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磁控溅射制备CuZrW2O8梯度薄膜工艺研究.pdf

上传人:durian 2014/6/6 文件大小:0 KB

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文档介绍

文档介绍:学位论文作者签名:/爹动独创性声明加”年拢蝗本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指导下,独立进行研究工作所取得的成果。除文中已注明引用的内容以外,本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果,也不包含为获得江苏大学或其他教育机构的学位或证书而使用过的材料。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均己在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。
学位论文作者签名:拗哞弛该如月年马魅学位论文版权使用授权书江苏大学、中国科学技术信息研究所、国家图书馆、中国学术期刊馀贪电子杂志社有权保留本人所送交学位论文的复印件和电子文档,可以采用影印、缩印或其他复制手段保存论文。本人电子文档的内容和纸质论文的内容相一致,允许论文被查阅和借阅,同时授权中国科学技术信息研究所将本论文编入《中国学位论文全文数据库》并向社会提供查询,授权中国学术期刊馀贪电子杂志社将本论文编入《中国优秀博硕士学位论文全文数据库》并向社会提供查询。论文的公布ǹ授权江苏大学研究生处办理。本学位论文属于不保密囹。指导教师签名:
磁控溅射制备/梯度薄膜工艺研究/专姓业:挝料堂奎孟鱼年名:
靶材同时溅射制各了梯度薄膜,考察了不同靶材对梯度薄膜成分和有较大的各向同性负热膨胀系数∞.矿酊。当与基体复合,实摘要作为一种重要的负热膨胀材料,,可以有效减小复合材料的整体热膨胀系数,解决微电子工业中与互连间的热膨胀系数不匹配问题,提高热导率,应用于微电子元件、精密光学仪器、集成电路板等领域。目前,关于/梯度薄膜的研究报道较少,所以本文重点研究了荻缺∧さ闹票腹ひ铡本文采用磁控溅射法制备/梯度薄膜。采用簄:、⒋縕胁娜植煌胁模隒表面形貌的影响,寻求最佳靶材配比。重点研究了单晶,石英和玻璃三种基片、同时溅射和交替溅射两种溅射方式、,煌闶灾票窩痁荻缺膜的成分、表面和三维形貌、膜基结合力和热应力的影响。使用湎哐苌湟、扫描电子显微镜⒛芷滓对薄膜的组成和表面形貌进行表征;使用原子力显微镜鄄毂∧さ娜蚊埠筒饬薄膜的粗糙度;;使用型应力测试仪测量薄膜的热应力。研究结果表明:沉积态薄膜为非晶态钨酸锆和铜的复合薄膜。∧こ煞肿钗@想,为和立方、Ⅳ春媳∧ぃ冶砻嫘蚊沧罴眩坏ゾ现票傅/梯度薄膜结晶度最好、表面形貌最为平坦,粗糙度最小、膜基结合力最大;同时溅射制备的梯度薄膜比交替溅射制备薄膜均匀性好,三维形貌也更为理想,膜基结合力更大;在罩℃退火处理后的薄膜结晶度良好,隳ぶ惺状纬鱿职糇碯Я#层膜的表面和三维形貌最佳,膜基结合力最大,缓和热应力效果最好。关键词:负热膨胀,梯度薄膜,铜,钨酸锆,磁控溅射
磁控溅射制备。梯度薄膜工艺研究痁Ⅱ
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