文档介绍：浙江大学光电系
硕士学位论文
原子层沉积制备光学薄膜的性能研究及其计算机仿真
姓名:何俊鹏
申请学位级别:硕士
专业:测试计量技术及仪器
指导教师:章岳光;沈伟东
20100106
摘要原子层沉积募际醵员∧さ某煞莺秃穸染哂谐錾ǖ目刂颇芰Γ氪彻庋П膜制备技术相比所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀。原子尺度上的谭抡娑深入了解原子层沉积机理,改进和优化薄膜生长工艺,提高薄膜质量,改善光学薄膜性质具有重要意义。在深入了解墓ひ仗氐慵肮ひ展毯螅攵訟沉积:∧ぃ构建仿真二维单元模型。通过分析不同沉积阶段的反应过程和机理,采用动力学蒙特卡罗方法訟,薄膜的粱探心D猓⒘饲扒宓酱铩⒈砻婊Х从Α解吸三种不同的事件模型。改变工艺条件进行多组仿真实验,结果表明票副∧な基片温度、反应室真空度和基片处理工艺等多种因素的影响。其中基片温度对初始沉积时间和生长速率的影响最为显著。在温度窗口内,基片温度越低,薄膜生长越缓慢,初始沉积时间越长,表面粗糙度增加;随着基片温度的升高,初始沉积过程时间越短,温度越高,生长速率越高,表面粗糙度也越小。同时对基片采用预处理工艺也可以提高薄膜沉积速率,改善膜层质量。根据仿真结果,研究了原子层沉积制备氧化铝、氧化钽、氧化钛和氧化锆薄膜的光学性能,比较各种工艺条件下成膜质量。采用分光光度计,湎吖獾缱幽芷,湎哐苌,原子力显微镜璧缱酉晕⒕等分析手段对薄膜的微结构、表面形貌和光学特性进行了研究。结果表明,在适当工艺条件下原子层沉积法制备的:,和罕∧ぴ谕嘶鹎昂缶氏治薅ㄐ谓峁梗K爻煞纸咏计量比,其表面粗糙度小,膜层致密无针孔,聚集密度高,光学非均匀性优于其他制备方法。同时利用票缸吭降暮穸瓤刂颇芰Ω慕ひ眨赥:薄膜中插入:D擅层来破坏结晶,可以获得无定形且残余应力小的汗庋П∧ぃ愎庋П∧さ挠τ谩关键词:原子层沉积,光学薄膜,计算机仿真,生长速率,基片温度浙江大学硕士论文
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导师签名::彳≈诒簘穆夕甓嘣翵加D旯浙江大学研究生学位论文独创性声明学位论文版权使用授权书ぁ尽弓月/≯日研究成果,也不包含为获得逝’江盘堂或其他教育机构的学位或证书而使用过的材逝鎏盘堂本论文的复印件和磁盘,允许论文被查阅和借阅。本人授权逝姿态堂可以将学位论广白有权保留并向国家有关部门或机构送交本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。除了文中特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示谢意。签字日期:本学位论文作者完全了解文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索和传播,可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。C艿难宦畚脑诮饷芎笫视帽臼谌ㄊ浙江大学硕士论文
致谢首先诚挚的感谢我的导师章岳光副教授。在攻读硕士学位期间,我始终得到了章老师精心的指导和无微不至的关怀。章老师渊博的知识、敏锐的科学洞察力、严谨的治学作风以及大胆的创新精神,令我敬佩不已。学习他为人处事的态度和方式,这将使我受益终生。感谢沈伟东副教授,沈老师悉心的教导使我得以一窥薄膜领域的深奥,在方法、思想方面给予我很多创新指导,不时的讨论并指点我正确的方向,使我获益匪浅。沈老师对学问的严谨态度更是我学习的典范。本论文的完成另外亦得感谢光电显示研究所刘旭教授和顾培夫教授大力协助。没有两位老师深厚的功底和耐心的指导,实验就无法进行的如此顺利,他们为本课题的研究提供了方方面面的帮助;感谢李海峰教授在模拟实验和理论上给予的帮助和讨论;感谢叶辉教授、郑臻荣副教授和黄文标老师在材料、光学系统方面给予我的大力支持;感谢刘向东教授和姚达老师在我思想和生活上的关心。因为有你们的体谅及帮忙,使得本论文能够更完整而严谨。衷心感谢信息学院王秀萍老师,她热情地帮助学生解决学习和生感谢王颖博士、孙雪铮博士、薛晖博士、尹伊博士、张磊博士、傅兴海博士、朱德喜博士、陈卫兰硕士、罗正岳硕士、周可余硕士、张冲硕士、皇甫幼睿硕士不厌其烦的指出我研究中的缺失,且总能在我迷惘时为我解惑,也感谢同学的帮忙,恭喜我们顺利走过这三年。感谢国家自然基金对本课题的资助,感谢本课题组成员的帮助和支持。感谢浙江大学分析测试中心的老师,为课题研究提供了测试设备的支持和帮助。我的父母及家人的帮助和鼓舞给了我极大地精神力量,使我能够完成研究生生活。何俊鹏年月日于求是园活中碰到的困难和问题。浙江大学硕士论文
§薄膜技术的应用和发展第滦髀辏現瞥傻谝慌醴茨ぃ庋П∧け愕巧狭死返奈杼ā=几十年来,薄膜技术呈现出突飞猛进的发展势头,光学薄膜技术从理论、计算、设计、测量和工艺各方面均已经形成了完整