文档介绍：⋯鹣一飂以甼以’霉;;,彳【传锭系热电复合薄膜材料的磁控溅射制备及结构研究中山大学硕士学位论文学位申请人:李义兵导师:任山副教授专业:凝聚态物理中山大学中国·广州#⒅郾箎尹嘲一,:●韶●●气璧峰一●:“
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醐删矽日导师签名:酌鸼学位论文作者签名:专纾学位论文作者签名:右泛笔日期:纠,年多月论文原创性声明学位论文使用授权声明日期:加扣年孪θ本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指导下,独立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或者集体已经发表或者撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均已在文中已明确的方式标明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。本人完全了解中山大学有关保留、使用学位论文的规定,即:学校有权保留学位论文并向国家主管部门或其指定机构送交论文的电子版和纸质版,有权将学位论文用于非赢利目的的少量复制并允许论文进入学校图书馆、院系资料室被查阅,有权将学位论文的内容编入有关数据库进行检索,可以采用复印、缩印或其他方法保存学位论文。
学位论文作者签名:夕争义乒,日期:加『·知识产权保护声明本人郑重声明:我所提交答辩的学位论文,是本人在导师指导下完成的成果,该成果属于中山大学物理科学与工程技术学院,受国家知识产权法保护。在学期间与毕业后以任何形式公开发表论文或申请专利,均须由导师作为通讯联系人,未经导师的书面许可,本人不得以任何方式,以任何其它单位做全部和局部署名公布学位论文成果。本人完全意识到本声明的法律责任由本人承担。
系热电复合薄膜材料的磁控溅射制备及结构研究摘要凝聚态物理硕士生:李义兵指导教师:任山副教授的成膜性均较好——平整、连续。直流方式的薄膜样品的成分和靶成分较接近,本学位论文首先综述了等鹊绫∧さ难芯拷梗隽擞么趴亟ι浞制备系热电薄膜的优势,然后重点介绍了磁控溅射单靶溅射系热电薄膜和双靶溅射掺春夏ぃ詈蟛捎蒙璧缇、湎哐苌、能谱分析仁笛榧觳馐侄味匝方行蚊埠徒峁贡碚鳌1韭畚难芯苛私ι涔β对纯热电薄膜结构的影响,并对掺春媳∧さ慕峁菇辛松钊刖咛宓难芯俊采用压片、烧结法和真空熔炼法制备了汀型热电靶,并制备出了二维微结构的各种热电薄膜样品。通过比较几种沉积衬底上的薄膜的成膜质量情况,得知单晶片,玻璃,膜三种衬底较适合沉积等鹊绫∧ぁ压片烧结法制作的桶械闹绷鳌⑸淦到ι渲校街纸ι浞绞讲难而射频方式的薄膜样品的成分和靶成分有一定的出入,说明直流溅射方式较好。两种方式溅射得到的薄膜的物相组成主要为..真空熔炼法制作的桶械闹绷鳌⑸、连续。直流溅射功率为保谋膜样品的相结构较好,且成分与靶成分相差不大,薄膜的物相组成主要为..淦到ι涔β饰时,薄膜的成分与靶成分最为接近,薄膜也有
关键词:系热电薄膜,磁控溅射沉积,掺杂较好的物相结构,其物相组成主要为..单靶溅射な保ü谋渲绷鹘ι涔β剩芯苛私ι涔β识猿粱齏膜结构和形貌的影响:溅射功率越大,结晶性越好。制作掺春夏な保琋型熔炼靶的射频溅射功率选为琖靶的溅射功率在能起辉下尽量小,选为.×莶羧氲腤颗粒在薄膜中分布情况,提出了两种复合膜结构模型,包括交替沉积的多层周期结构模型、交替溅射沉积的混合掺入模型。我们制备了这两种模型的样品,并分析了其结构:旌喜粼痈春夏ぃ翰捎眯=惶娼ι涑粱绞剑岢隽巳种票阜椒ǎ固定热电靶射频溅射功率为谋鋀靶的直流溅射功率;潭╓靶的直流溅射功率为刚能起辉鞲呷鹊绨械纳淦到ι涔β剩热电靶和芯W罴呀ι涔β剩琖靶溅射时引入遮挡狭缝。后两种制备方法较成功。改变热电靶射频溅射功率的所制复合热电膜中,薄膜的物相组成主要为..,K乜赡以单晶颗粒的形式掺杂在热电膜中。改变狭缝宽度的所制复合热电膜中,薄膜的物相组成主要为..,K乜赡芤苑蔷ё刺嬖谟诒∧つ诓亢捅聿恪粼佣嗖阒芷诮峁垢春夏ぃ汉侠砩杓拼咳鹊绮愕慕ι涫奔洌苁贡∧せ得较好的掺杂浓度。改变纯热电层厚度的所制多层膜中,薄膜的物相组成主要为..,K乜赡芤苑蔷ё刺嬖谟诒∧ぶ小摘要