文档介绍：电解铜箔制造工艺介绍
电解铜箔制造工艺介绍电解铜箔制造工艺介绍
QUESTION
铜箔分为哪几类
铜箔行业标准有哪些
电解铜箔制造工艺流程有哪几步
电解铜箔的主要技术要求有哪些
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铜箔工业发展概述
铜箔行业标准
铜箔的分类
铜箔型号
电解铜箔生产工艺流程
电解铜箔表面晶相结构
主要技术要求
目录
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铜箔工业发展概述
电解铜箔的发展可划分为三个发展阶段：美国铜箔企业的创建，使世界电解铜箔业起步的阶段（1955年--70年代中期）；日本铜箔企业高速发展，全面垄断世界市场的阶段（1974年--90年代初期）；日、美、亚洲等铜箔企业多极化争夺市场的阶段（自90年代中期起至现今）
日本是世界上最大的铜箔生产国,其次是中国台湾.
铜箔工业是在1937年由美国新泽西州的Anaconda公司炼铜厂最早生产的.
1955年,美国Yates公司开始专门生产PCB用的铜箔.
20世纪60年代初，我国的本溪合金厂（及现在的本溪铜箔厂）、西北铜加工厂（即现在的白银华夏电子材料股份有限公司）、上海冶炼厂（即现在的上海金宝铜箔有限公司）依靠自己开发的技术，开创了我国PCB用电解铜箔业。70年代初已可大批量连续化生产生箔产品。80年代初又实现了阴极化的表面处理技术。90年代中后期，我国铜箔企业又建立起：香港建滔铜箔集团有限公司（在广东佛岗）、西安向阳铜箔有限公司、安徽铜陵中金铜箔有限公司、铁岭铜箔厂、武汉中安铜箔制造有限公司、咸阳正大高科技铜业有限公司、江西九江电子材料厂、合正铜箔（惠阳）有限公司等。其中合正铜箔（惠阳）有限公司是在90年代末台湾合正科技股份有限公司（台湾覆铜板生产厂），在广东惠阳建立了在大陆的第一个台资铜箔企业。上海金宝、铜陵中金、惠州联合等部分引进美国制造技术。
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世界上权威标准有：

美国ANSI/IPC 标准、欧州IEC标准、日本JIS标准
IPC-CF-150（） IPC-MF-150G（1999）
IEC-249-3A（1976）
JIS-C-6511（1992）JIS-C-6512 （1992）JIS-C-6513（1996）
GB/T-5230（1995）
2000年3月美国电子电路互联及封装协会（IPC）发布了“印制板用金属箔” （IPC—4562）。IPC—4562标准是一部全面规范铜箔品种、等级、性能的世界权威性标准。它具有世界先进性，它代替了原世界大多数铜箔厂家所执行的IPC—MF—150G标准。
铜箔行业标准
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按照铜箔不同的制法，
可分为压延铜箔及电解铜箔两大类。
IPC—4562按照其制造工艺的不同，规定了金属箔的种类及代号：E— 电解箔W— 压延箔电解铜箔 electrodeposited copper foil（ED copper foil）指用电沉积制成的铜箔
压延铜箔 rolled copper foil    用辊轧法制成的铜箔，亦称为锻轧铜箔（wrought copper foil）。
铜箔的分类
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电解铜箔有以下种类:
双面处理铜箔 double treated copper foil   指对电解铜箔的粗糙面进行处理外，对光面也进行处理使之粗化。
高温高延伸性铜箔 high temperature elongation electrodeposited copper foil（简称为HTE铜箔）在高温（180℃）时保持有优异延伸率的铜箔，其中，35μm 和70μm厚度的铜箔高温（180℃）下的延伸率应保持室温时的延伸率的30% 以上，又称为HD铜箔（high ductility copper foil）。
低轮廓铜箔 low pro foil，（简称LP）   一般铜箔的原箔的微结晶非常粗糙，呈粗大的柱状结晶。其切片横断层的棱线，起伏较大。而低轮廓铜箔的结晶很细腻（在2 μm以下），为等轴晶粒，不含柱状的晶体，呈成片层状结晶，且棱线平坦。
涂树脂铜箔 resin coated copper foil（简称RCC）  国内又称为附树脂铜箔。台湾称为：背胶铜箔。国外还有的称为：载在铜箔上的绝缘树脂片，带铜箔的粘结膜。
铜箔的分类
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电解铜箔有以下种类:
涂胶铜箔adhesive coated copper foil（简称ACC）又称为“上胶铜箔”。在铜箔粗化面上涂有树脂胶液的铜箔产品。一般树脂胶是缩醛改性酚醛树脂、环氧—丙烯酸酯树脂、丁***改性酚醛树脂等类型。涂胶铜箔及涂树脂铜箔（RCC）在功能上有所区别，只作为铜箔及