文档介绍:国家标准《电子工厂洁净厂房设计规范》中强制性条文GB 50472-2008
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1、电子工厂洁净厂房特点
2、章节内容简介
3、强制性条文等介绍
4、结语
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1、电子工厂洁净厂房特点
电子产品生产发展迅猛
,12〞~16 〞,64G
TFT第六代产品
对化学污染物的严格要求
大面积、大体量、组合式、多层洁净厂房
投资大、能量消耗大
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3
1、电子工厂洁净厂房特点
集成电路对化学污染物的控制指标
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4
电子工厂洁净厂房的特点:
微粒控制十分严格、
ISO1级或更严格。
高纯物质,包括高纯水、高纯气体高纯化学品的供应、输
送。
对微振控制十分严格、需制定切实可行的规定
对防静电、电磁兼容等
大体量、多层单向流洁净室,二层/三层布置数万m2。
1、电子工厂洁净厂房特点
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1、电子工厂洁净厂房特点
项目
位置
状况
规格
(㎜)
洁净生产区
面积(㎡)
建筑
高度
芯片厂1
大陆
生产运行
200(8")
8700
芯片厂2
台湾
生产运行
300/200(12"/8")
14000
芯片厂3
台湾
生产运行
300(12")
9000
芯片厂4
台湾
生产运行
300(12")
9000
芯片厂5
韩国
生产运行
200(8")
10000
芯片厂6
韩国
生产运行
200(8")
10000
芯片厂7
韩国
生产运行
200(8")
10000
芯片厂8
韩国
生产运行
200(8")
10000
芯片厂9
爱尔兰
生产运行
200(8")
8892
芯片厂10
美国
生产运行
200(8")
15810
芯片厂11
美国
生产运行
200(8")
15810
芯片厂12
美国
生产运行
300(12")
13857
芯片厂13
爱尔兰
生产运行
300(12")
12183
芯片厂14
磁力
生产运行
300(12")
8740
芯片厂15
台湾
生产运行
200(8")
7900
芯片厂16
法国
生产运行
200(8")
6500
芯片厂17
新加坡
生产运行
200(8")
8000
表1 国内外一些微电子洁净厂房的高度和洁净生产区面积
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1、电子工厂洁净厂房特点
项目
位置
状况
规格
(㎜)
洁净生产区
面积(㎡)
建筑
高度
芯片厂18
上海
生产运行
300(12")
12000
芯片厂19
上海
生产运行
300(12")
9400
芯片厂20
成都
生产运行
200(8")
21
芯片厂21
上海
生产运行
200(8")
10321
芯片厂22
苏州
生产运行
200(8")
12000
芯片厂23
重庆
建设中
200(8")
1500
28
芯片厂24
浙江
生产运行
150(6")
5160
19
TFT-LCD/1
北京
生产运行
5代,1100×1300
28000
TFT-LCD/2
上海
生产运行
5代,1100×1300
22000+14000
TFT-LCD/3
昆山
试生产
5代,1100×1300
~3000
TFT-LCD/4
深圳
正在建设
5代,1100×1300
~33000
TFT-LCD/5
台湾
生产运行
6代,1500×1800
~36000
~27
TFT-LCD/6
上海
正筹建
6代,1500×1800
~34000
~27
TFT-LCD/7
北京
正筹建
6代,1500×1800
~36000
~27
TFT-LCD/8
日本
生产运行
8代,2160×2460
~90000
表1 国内外一些微电子洁净厂房的高度和洁净生产区面积
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1、电子工厂洁净厂房特点
表22 几类电子产品所需气体品种
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1、电子工厂洁净厂房特点
表 2