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电子技术基础模拟部分(第六版)-康华光ch03.ppt

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文档介绍

文档介绍:电子技术基础(jīchǔ)模拟部分
1 绪论
2 运算放大器
3 二极管及其基本电路
4 场效应三极管及其放大电路
5 双极结型三极管及其放大电路
6 频率响应(pín lǜ xiǎnɡ yīnɡ)
7 模拟集成电路
8 反馈放大电路
9 功率放大电路
10 信号处理与信号产生电路
11 直流稳压电源
第一页,共53页。
3 二极管及其基本(jīběn)电路
半导体的基本(jīběn)知识
PN结的形成及特性
二极管
二极管的基本(jīběn)电路及其分析方法
特殊二极管
第二页,共53页。
半导体的基本知识
半导体材料
半导体的共价键结构(jiégòu)
本征半导体
杂质半导体
第三页,共53页。
半导体材料(cáiliào)
根据物体导电能力(nénglì)(电阻率)的不同,来划分导体、绝缘体和半导体。
典型(diǎnxíng)的半导体有硅Si和锗Ge以及***化镓GaAs等。
第四页,共53页。
半导体的共价键结构(jiégòu)
硅和锗的原子结构简化(jiǎnhuà)模型及晶体结构
第五页,共53页。
本征半导体
本征半导体——化学成分纯净的半导体。它在物理结构(jiégòu)上呈单晶体形态。
空穴(kōnɡ xué)——共价键中的空位。
电子(diànzǐ)空穴对——由热激发而产生的自由电子(diànzǐ)和空穴对。
空穴的移动——空穴的运动是靠相邻共价键中的价电子依次充填空穴来实现的。
由于随机热振动致使共价键被打破而产生空穴-电子对
第六页,共53页。
杂质(zázhì)半导体
在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质,可使半导体的导电性发生显著变化(biànhuà)。掺入的杂质主要是三价或五价元素。掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。
N型半导体——掺入五价杂质(zázhì)元素(如磷)的半导体。
P型半导体——掺入三价杂质元素(如硼)的半导体。
第七页,共53页。
杂质(zázhì)半导体
1. N型半导体
因五价杂质原子中只有四个价电子能与周围四个半导体原子中的价电子形成共价键,而多余(duōyú)的一个价电子因无共价键束缚而很容易形成自由电子。
在N型半导体中自由电子是多数载流子,它主要由杂质原子提供(tígōng);空穴是少数载流子, 由热激发形成。
提供自由电子的五价杂质原子因带正电荷而成为正离子,因此五价杂质原子也称为施主杂质。
第八页,共53页。
杂质(zázhì)半导体
2. P型半导体
因三价杂质原子在与硅原子形成共价键时,缺少一个(yī ɡè)价电子而在共价键中留下一个(yī ɡè)空穴。
在P型半导体中空穴是多数载流子,它主要由掺杂形成;自由电子(zì yóu diàn zǐ)是少数载流子, 由热激发形成。
空穴很容易俘获电子,使杂质原子成为负离子。三价杂质因而也称为受主杂质。
第九页,共53页。
杂质(zázhì)半导体
3. 杂质(zázhì)对半导体导电性的影响
掺入杂质对本征半导体的导电性有很大的影响,一些典型(diǎnxíng)的数据如下:
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度:
n = p =×1010/cm3
1
本征硅的原子浓度: ×1022/cm3
3
以上三个浓度基本上依次相差106/cm3 。
2
掺杂后 N 型半导体中的自由电子浓度:
n=5×1016/cm3
第十页,共53页。

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