文档介绍：Silvaco TCAD Silvaco TCAD 工艺仿真(一) 工艺仿真(一) Tang shaohua, SCU 15:13 1 Silvaco 学习 E-Mail: shaohuachn@ shaohuachn@ ATHENA 工艺仿真软件? ATHENA 能帮助工艺开发工程师开发和优化半导体制造工艺。? ATHENA 提供一个易于使用,模块化的,可扩展的平台。?可用于模拟离子注入,扩散,刻蚀,淀积,以及半导体材质的氧化。它通过模拟取代了耗费成本的硅片实验,可缩短开发周期和提高成品率。 15:13 2 Silvaco 学习工艺仿真模块 ATHENA 工艺仿真软件 SSuprem4 二维硅工艺仿真器 MC 蒙托卡诺注入仿真器硅化物模块的功能精英淀积和刻蚀仿真器蒙托卡诺沉积刻蚀仿真器先进的闪存材料工艺仿真器光电印刷仿真器 DeckBuild 集成环境 15:13 3 Silvaco 学习 ATHENA 工艺仿真软件?所有关键制造步骤的快速精确的模拟,包括 CMOS , bipolar , SiGe , SOI ,III-V ,光电子学以及功率器件技术?精确预测器件结构中的几何结构,掺杂剂量分配,和应力?有助于 IDMs ,芯片生产厂商以及设计公司优化半导体工艺,达到速度、产量、击穿、泄漏电流和可靠性的最佳结合 15:13 4 Silvaco 学习 ATHENA 工艺仿真软件?分析和优化标准的和最新的隔离流程,包括 LOCOS , SWAMI ,以及深窄沟的隔离?在器件制造的不同阶段分析先进的离子注入方法——超浅结注入,高角度注入和为深阱构成的高能量注入?支持多层次杂质扩散,以精确预测衬底与邻近材料表面的杂质行为 15:13 5 Silvaco 学习 ATHENA 工艺仿真软件?考虑多重扩散影响,包括瞬态增强的扩散, 氧化/硅化加强的扩散,瞬态激活作用,点缺陷和簇群构造以及材料界面的再结合, 杂质分离,和传输?精确地对几何刻蚀和共形淀积,以及个别结构和网格处理技术建模,用以允许进行多器件几何结构的模拟和分析。 15:13 6 Silvaco 学习 ATHENA 工艺仿真软件?通过 MaskViews 的掩模构造说明,工程师可以有效地分析在每个工艺步骤和最终器件结构上的掩模版图变动的影响。?与光电平面印刷仿真器和精英淀积和刻蚀仿真器集成,可以在物理生产流程中进行实际的分析。?与 ATLAS 器件模拟软件无缝集成 15:13 7 Silvaco 学习可仿真的工艺( Features and Capabilities ) ? Bake ? CMP ? Deposition ? Development ? Diffusion ? Epitaxy ? Etch ? Exposure ? Imaging ? Implantation ? Oxidation ? Silicidation 具体描述请参见手册中 Features and Capabilities 15:13 8 Silvaco 学习 ATHENA 的输入和输出工艺步骤 GDS 版图掩膜层一维和二维结构 E-test 数据(Vt) 分析电阻和 CV 分析涂层和刻蚀外形输出结构到 ATLAS 材料厚度,结深 CD 外形,开口槽 ATHENA 工艺模拟软件 15:13 9 Silvaco 学习工艺仿真流程?1、建立仿真网格?2、仿真初始化?3、工艺步骤?4、抽取特性?5、结构操作?6、 Tonyplot 显示 15:13 10 Silvaco 学习