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光刻与刻蚀工艺流程89193458-课件(PPT·精·选).ppt
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光刻工艺和刻蚀工艺Xiao Chao未来几代硅技术对光刻的要求DRAM供货的首年199719992003200620092012DRAM位/片...
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ICP考试题库选择题。1、ICP刻蚀机的分子泵正常运行时的转速大约在(B )RPMA 20000 B 32000C 40000 D 180002、...
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微电子工艺学Microelectronic Processing第六章光刻与刻蚀工艺张道礼教授Email: zhang-daoli@Voice: 8754...
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3.2 刻蚀制程工艺条件3.2.1 刻蚀机型号:北方微电子ELED-330;3.2.2 刻蚀程序:Gao_Bao_PSS_01~05,工艺...
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