文档介绍：.下载可编辑.
材料X射线光电子能谱数据处理及分峰的分析实例
例：将剂量为1107ions/cm2,能量为45KeV的碳离子注入单晶硅中，然后在1100C退火2h进行热处理。对单晶硅试样进行XPS测试，试对其中的C高分辨扫瞄谱1s进i口州注Iaal£F垃me丄)皿1处t^lp
□iBBDfe刮空Bl刚曷聞阳日圈耳|圍吕I囲I1^1创创紺州茁I
BM
1
6700
z
H5J1D
J
甲
saan
fr
G17D
?
6S6D
0
6190
9
EDBD
III
趴ID
in
tzaa
12
13
6370
14
6140
15
63S0
HE
Hl：il)
17
5Mfl
N1
眄朋
IS
MW
2d
G28D
21
63®0
3、如图：点击工具栏plot,选择line
.下载可编辑.
4、出现下图：点击B(Y),再点击〈-〉Y，使B(Y)成为Y轴数据。然后在“setXvalues"中输入起始值和步长。
.下载可编辑.
5、点击OK，得到下图:
WTHTLZ口
LML*E^lt'£i*■¥SrQ.^t*.^->*£3-n*tU>-*Lp
|_|BH应||
-1m
耳|眄1麗|日］民|
筒©1
刮曰1皑1
|£1眾1
symmim胡野lai.
|77q|+E3tI■>I丁I』ICI/I匸IIOI
“|g|e?l®检i&耳1宙1旧丨1唱丨唏1砂1临1皿1尬1曲urU
T-z-rH・]_rpx-«»3P1[^phLi*MUM
.下载可编辑.
6、利用ORIGIN提供的工具可以方便的进行平滑、位移。
:
1）如图：选择analysis—translate—vertical或horizontal可以进行水平或垂直方向的位移。我们以水平位移为例进行讲解。
.下载可编辑.
(f\SMicrocal0rigin一UBTTTLED一[Grmphl]
|E订egditViewGraphData
ArL：alysis
・H&lp
14UUU
12000-
10UUU-
S1mp1cM_ath..-
SmootlLirLg
TFTF辽t迂
ZFT.._
BOuu
200u
HI:sc=
=28€.,y=
:1^010
二」UJHr一一
□口口口
0OULI
吕□口口
2）在图中双击峰顶，如图示（小窗口给出的是此点的X,Y值）
1勺丨1誦11II占Id1\ir\\Il曲11妙1
口丨洁丨喝|R|咼I
霍41
ral^l晶1
怪|硒|
Miciroc^.—UKT工TKED-EGriphl]
旦E-il*aEditew&-ysLsToolsZFi^
.下载可编辑.
3）然后在图中单击其他位置找到合适的X值（小窗口给出的是红十字的X,Y值）
I諭|阳i匚Ui~iui：TL一UlFTLETSU
-□IZIO
jF_i□.=.□a.£■Taal_sZFoi~ma-LWandawH>lp匚|曲猛血1鈿血1圖***@1事|酋|阖冋日窃|m|国imi晶11品隔|爲[
Xaa□-scZFDX-m*
HDDi_spl1
||x=Z84.«36til7,y:
15010
.下载可编辑.
.下载可编辑.
4）双击红十字的位置，峰顶就会位移到此处：
.下载可编辑.
耐Mi*oual呼让心-5TT工TLEDtGi-aphl]
.下载可编辑.
|Q[Pila
□|ia|團罔talial圈阖同同岡ia|日|雀|m|更|自|Q|旦些|列|***因!
Edit
IW鱼X~■.
TddxP旦x-ENtWind-owHelp
300
2S5
E曰口2U52UCS
Xaxistitl曰
1400□
12IJIJ□
位移可以反复多次的进行，垂直方向的位移和水平方向的一样。
B、平滑
1）如图选择：
1BOOO—
■I4□口口一
1200O一
mF
•l□口口口一
eoo